硼镓共掺多晶硅背钝化太阳电池的光衰研究
发布时间:2021-03-14 04:59
研究同一小硅锭中不同部位的硼镓共掺多晶硅片制备成背钝化太阳电池后,不同的电池效率和光衰情况,并研究经过同样的抗光衰处理后这些电池的光衰情况。测试结果显示,硅锭尾部位置的硅片具有最高的电阻率、最高的氧含量、最低的硼、镓含量及最高的杂质含量。将硅锭不同位置的硅片经过量产产线制成背钝化电池后,头部硅片得到的电池片的平均转换效率为19.08%,中部硅片得到的电池片的平均转换效率平均效率为19.15%,尾部硅片得到的电池片的平均转换效率为19.06%。光衰结果显示,对于未经过抗光衰处理的电池片,头部和中部位置具有较低的光衰比例,而尾部位置具有较高的光衰比例;电池片经过抗光衰处理后,不同位置对应的电池片都有效率提升,继续经过光衰测试后,尾部位置出现较明显的抗光衰效果。该研究对硼镓共掺多晶硅片生产和多晶背钝化电池抗光衰工艺具有指导意义。
【文章来源】:太阳能学报. 2020,41(07)北大核心
【文章页数】:6 页
【部分图文】:
硅片选择示意图
硅片的不同位置对硅片性质的影响
硅片的不同位置对硅片性质的影响
【参考文献】:
期刊论文
[1]掺硼p型晶硅太阳电池LID恢复研究[J]. 陈健生,董方,杨德仁,包大新,赵锋,傅晓敏. 半导体光电. 2016(02)
本文编号:3081530
【文章来源】:太阳能学报. 2020,41(07)北大核心
【文章页数】:6 页
【部分图文】:
硅片选择示意图
硅片的不同位置对硅片性质的影响
硅片的不同位置对硅片性质的影响
【参考文献】:
期刊论文
[1]掺硼p型晶硅太阳电池LID恢复研究[J]. 陈健生,董方,杨德仁,包大新,赵锋,傅晓敏. 半导体光电. 2016(02)
本文编号:3081530
本文链接:https://www.wllwen.com/kejilunwen/dianlilw/3081530.html
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