掩模位置误差对光刻投影物镜畸变的影响

发布时间：2017-11-14 08:31

  本文关键词：掩模位置误差对光刻投影物镜畸变的影响

  更多相关文章： 光刻 光学设计 光刻投影物镜 畸变 勒让德多项式 公差分析

【摘要】：为使光刻投影物镜满足光刻工艺的要求,研究了掩模位置误差对光刻投影物镜引入的畸变。采用勒让德多项式描述光刻投影物镜的畸变,并应用勒让德多项式对光刻投影物镜进行了畸变分析及畸变补偿。利用以上方法,对一台工作波长为193 nm,数值孔径(NA)为0.75的光刻投影物镜进行了畸变分析。结果显示:当掩模面3个方向的平移公差为1.0μm,绕3个轴的转动公差为0.1 mrad时,光刻投影物镜标定前后的畸变分别为2 113.2 nm和10.0 nm。利用勒让德多项式进行了畸变拟合,获得了多项式中各项系数,并给出掩模面位置误差的畸变敏感度系数;然后利用畸变敏感度系数对掩模面的随机位置误差进行了公差分析和补偿。结果表明,将光刻投影物镜畸变控制在2 nm以内时,掩模面z方向的位置公差为±2.0μm,掩模面与x轴与y轴的倾斜公差分别为±22.3μmad和±55.3μmad。实验结果证明提出的方法适用于对掩模面引入的光刻投影物镜畸变进行有效分析及补偿。
【作者单位】： 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所;中国科学院大学;
【基金】：国家重大科技专项资助课题
【分类号】：TN305.7
【正文快照】： 光刻投影物镜的主要功能是将掩模图形按一定比例近似完美地成像到硅片上,这就要求光刻投影物镜必须满足高像质、低畸变的条件。随着光刻工艺的发展,套刻工艺对光刻投影物镜的像质、畸变等要求也越来越高。其中,畸变是影响光刻投影物镜成像的关键[1]。工作波长为193 nm的产品化

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