纳米级MOSFET亚阈值区电流特性模型
发布时间:2017-11-21 01:13
本文关键词:纳米级MOSFET亚阈值区电流特性模型
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【摘要】:基于纳米级金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET)器件结构,从基本的漂移扩散方程出发,分别建立了亚阈值区漏极电流模型和栅极电流模型。其中将频率与偏置依赖性的影响显式地体现在模型中。通过对比分析发现亚阈值区漏极电流模型具有等比例缩小的可行性,栅极电流具有跟随性和频率依赖性。同时将所建模型的仿真结果与实验结果进行了比较,验证了模型准确性。
【作者单位】: 西南科技大学信息工程学院;
【基金】:国家自然科学基金(69901003)
【分类号】:TN386.1
【正文快照】: 0引言 集成电路对高集成度、低功耗和工作频率的需求不断提高,使得CMOS技术不断发展。但对于产品设计来说,漏极电流和栅极电流作为MOS器件的重要直流参数,是器件建模和仿真的难点和核心,同时能够准确预测MOSFET高频电流特性的物理数学模型也是至关重要的[1]。 目前对围绕纳
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1 陈宇,牛秀卿;工作在亚阈值区CMOS OTA的研究[J];南开大学学报(自然科学版);2000年01期
2 代月花;陈军宁;柯导明;胡媛;;研究纳米尺寸MOSFETs亚阈值特性的一种新方法(英文)[J];中国科学技术大学学报;2007年11期
3 代月花;陈军宁;柯导明;;摄动法研究纳米MOSFETs亚阈值特性[J];半导体学报;2007年02期
4 朱兆e,
本文编号:1209171
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