金刚石在未来电网中的应用展望

发布时间：2018-04-09 18:55

  本文选题：金刚石　切入点：电网　出处：《微纳电子技术》2017年03期

【摘要】：未来电网的快速发展对半导体材料特性,尤其是电学特性提出了更高要求。结合电网应用,通过比较金刚石及其他半导体材料(包括Si,4H-SiC及GaN等),显示出金刚石材料全方位的特性优势;进一步比较国际上常用的金刚石生长方法,确定微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)法是目前能够稳定沉积均匀大尺寸、纯净金刚石薄膜最具前途的技术,这为电力电子器件的制备奠定了基础。同时,对金刚石电力电子器件的发展进行了总结,并对其在电网中的应用进行了展望,提出扩大单晶尺寸、降低单晶缺陷、实现n型掺杂等方面将是进一步研究的重点。
[Abstract]:The rapid development of power grid in the future requires higher characteristics of semiconductor materials, especially electrical properties.By comparing diamond and other semiconductor materials (such as Si-4H-SiC and GaN, etc.) with the application of power grid, the all-round characteristic advantages of diamond materials are shown, and the diamond growth methods commonly used in the world are further compared.It is determined that microwave plasma chemical vapor deposition (MPCVD) method is the most promising technique for stable deposition of uniform and large size and pure diamond films, which lays a foundation for the fabrication of power electronic devices.At the same time, the development of diamond power electronic devices is summarized, and its application in power grid is prospected. It is pointed out that expanding single crystal size, reducing single crystal defects and realizing n-type doping will be the key points of further research.
【作者单位】： 全球能源互联网研究院功率半导体研究所;国网山东省电力公司;
【基金】：国家高技术研究发展计划(863计划)资助项目(2014AA052401) 国家电网公司科技项目(5455DW150013)
【分类号】：TN303

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本文编号：1727704