考虑电子注发射度的圆孔膜片透镜焦距

发布时间：2018-05-18 21:28

  本文选题：发射度 + 圆孔膜片透镜　； 参考：《真空科学与技术学报》2016年05期

【摘要】：随着真空电子器件及所用电子注尺寸的减小,发射度效应成为器件设计过程中需要考虑的重要因素之一。圆孔膜片透镜是组成真空电子器件的一种基本元件,本文通过理论推导获得了考虑电子注发射度效应的圆孔膜片透镜焦距公式。首先基于圆孔膜片透镜电位分布,对透镜厚度进行了界定。随后利用透镜区电子注边缘电子的径向动力学方程推导了电子的傍轴轨迹方程,通过对该方程的数学变换获得了考虑电子注发射度效应的圆孔膜片透镜焦距公式。最后以平行圆柱流Pierce枪阳孔为例,分析了典型强流细束电子注不同导流系数、发射度和半径下透镜焦距的变化,与经验修正结果符合较好。
[Abstract]:With the decrease of the vacuum electronic device and the size of the electron beam used, emittance effect becomes one of the important factors to be considered in the design of the device. Circular diaphragm lens is one of the basic components of vacuum electronic device. In this paper, the focal length formula of circular hole diaphragm lens considering the emittance effect of electron beam is derived theoretically. The thickness of the lens is defined based on the potential distribution of the diaphragm lens. Then the paraxial trajectory equation of the electron is derived by using the radial dynamic equation of electron beam edge electron in the lens region. The focal length formula of circular diaphragm lens considering the emissivity effect of electron beam is obtained by the mathematical transformation of the equation. Finally, taking the parallel cylindrical flow Pierce gun as an example, the variation of lens focal length under different conductivity, emittance and radius of a typical high current beam electron beam is analyzed, which is in good agreement with the empirical correction results.
【作者单位】： 西北核技术研究所高功率微波技术重点实验室;西安交通大学电子与信息工程学院;
【分类号】：TN103

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本文编号：1907276