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透明栅控SOI薄膜横向PIN光电探测器频率特性研究

发布时间:2020-12-17 04:55
  随着半导体技术和信息科学的快速发展,光敏器件在工业技术、国防军事和现代民用科技中起到关键作用。因此,在环境科学、生物医学等领域的短距离光通信和短距离监测系统中,急需具有高光电流、高灵敏度、高响应度、低暗电流和良好频率性能的低成本高性能光电探测器,这极大地促进了短波段光电探测的发展。透明栅控SOI薄膜横向PIN光电探测器(SOI LPIN PD-GTE)结合了典型CMOS SOI技术、横向PIN型光电二极管、BJMOSFET的优点,具有优越的光电性能和频率特性。本文分析了 SOI LPIN PD-GTE的器件结构和工作原理。基于器件结构,给出了 SOI LPINPD-GTE的频率特性的物理模型。利用二维Atlas数值仿真软件,考虑栅极偏压、入射光波长、本征区和P+、N+区掺杂浓度、本征区长度等参数,分析和优化了 SOI LPIN PD-GTE在不同入射光波长和温度影响下的频率特性。本征区长度Li=8μm、P+、N+区掺杂浓度1018cm-3、本征区掺杂浓度1015cm-3的典型尺寸器件在温度300K、栅极偏压0.5V、受到400nm以下短波长波段光照时表现出来了大约28 MHz的稳定的-... 

【文章来源】:湖南大学湖南省 211工程院校 985工程院校 教育部直属院校

【文章页数】:68 页

【学位级别】:硕士

【部分图文】:

透明栅控SOI薄膜横向PIN光电探测器频率特性研究


图1.1MOSFET开启状态下能带图??

硅技术,低功耗电路,光电集成,隔离结构


SOI技术是全球公认的新世纪微电子技术发展的先进技术,其在光电集成、??高速电路、低功耗电路、高温电路等领域都有广阔的发展前景,是微电子领域发??展的前沿技术,SOI?MOSFET的基本结构如图1.2,其相对于传统体硅技术引入??了掩埋氧化层,此隔离结构可以大大降低器件的功耗和漏电流[6],其优势总结为:??1、

模块图,光电二极管,界面,模块


DeckBuild中的模拟仿真代码显示出响应的半导体结构,可以调节其显示半导体??器件内的几何结构、材料掺杂等特性,并且可以根据仿真出来的图形在其上通过??Cutline截取所需要的能带结构、电子空穴浓度等相关材料参數和物理数据。图1.4??所显示的是PIN型光电探测器的仿真结果,其导出了器件的结构,显示了器件的??掺杂情况、电极等信息,并且使用Cutline功能得到了器件在垂直方向硅层正中间??的载流子分布情况。图1.5中显示的是PIN型光电二极管的DC仿真结果。Tonyplot??强大的模拟仿真功能使得具象的了解半导体器件结构成为可能,也使得半导体器??件的相关参数分析更加简单方便。??H?3)iS.;??flit?Z4|??|:l*t?I**lt?u?l;??,G?B?:i?0?#牐埃牳海牐幔崳?-is;?lac???tic??>?r??I月??m?f???:?-j..?.jiw


本文编号:2921440

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