组合倍率极紫外光刻物镜系统梯度膜设计方法
发布时间：2021-03-23 01:31
随着极紫外（EUV）光刻物镜的设计朝着组合倍率物镜系统的方向发展,物镜系统需要同时具有大视场和高数值孔径（NA）,因而产生了物镜的光线入射角及入射角范围急剧增大的问题,需要研究适用于组合倍率极紫外光刻物镜系统的膜层设计的新方法。提出了渐进优化膜层的设计方法,该方法提高了镀制膜层的物镜系统的反射率,保证了组合倍率物镜系统的成像质量。利用该方法对NA为0.6的组合倍率物镜系统进行了膜层设计,设计结果表明,含膜极紫外光刻物镜系统的平均反射率大于65%,各反射镜的反射率峰谷值均小于3.35%,反射率均匀性良好。
【文章来源】：光学学报. 2020,40(05)北大核心EICSCD
【文章页数】：8 页
【部分图文】：
多层膜厚度分布规律示意图。
Mo/Si规整膜反射率与光线入射角的关系[4]
本文所研究的物镜关于子午面对称,因此对其半视场进行研究即可知道整个视场的情况。本文所取的视场点是中心视场及边缘视场的六个视场点。表1 优化后组合倍率极紫外光刻物镜系统的性能指标Table 1 Performance indexes of anamorphic magnification EUV lithography objective system after optimization Parameter Specification Wavefront aberration/λ 0.05670 Wavelength /nm 13.5 Field of view /(mm×mm) 26×1 MH 4 ML 8 NA 0.6 Range of incident angle <6°
本文编号：3094868
【文章来源】：光学学报. 2020,40(05)北大核心EICSCD
【文章页数】：8 页
【部分图文】：
多层膜厚度分布规律示意图。
Mo/Si规整膜反射率与光线入射角的关系[4]
本文所研究的物镜关于子午面对称,因此对其半视场进行研究即可知道整个视场的情况。本文所取的视场点是中心视场及边缘视场的六个视场点。表1 优化后组合倍率极紫外光刻物镜系统的性能指标Table 1 Performance indexes of anamorphic magnification EUV lithography objective system after optimization Parameter Specification Wavefront aberration/λ 0.05670 Wavelength /nm 13.5 Field of view /(mm×mm) 26×1 MH 4 ML 8 NA 0.6 Range of incident angle <6°
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