基于DMD的数字光刻光学系统的研究

发布时间：2021-12-29 17:45

　　光刻技术作为加工半导体器件的核心技术,经历了接触光刻到扫描光刻的发展历程,由于制作成本过高,如何降低成本并探索新的光刻技术成为了研究热点。基于数字微镜器件（Digital Micromirror Device,DMD）的数字光刻技术,使用DMD代替掩膜版,每次光刻时不需要针对光刻图形制造掩膜版,从而降低光刻的制造成本,能够实现实时、高效率的光刻加工,提高光刻技术的灵活性。通过对DMD数字光刻系统工作原理的研究,确立其光学系统由照明系统、分光系统、投影系统三部分组成。照明系统使用复眼透镜作为的匀束及整形器件,以405nm波长的高斯光源作为模拟光源,设计了将不均匀的圆形斑整形为均匀的方形斑照明系统,使用9点采样法对均匀度进行测量,模拟均匀度可达97.6%。根据DMD的工作特性,设计三块全反射棱镜以实现DMD的“开”“关”态光束分离。设计的全反射棱镜可将照明光路与投影光路采用垂直连接的方式进行投影光刻,更便于两者在集成时机械结构的设计,继承并完善DMD型分光棱镜的设计理论。将设计结果代入光学软件模拟,模拟并验证棱镜与照明系统衔接后可实现DMD“开”“关”态光束的分离。为了得到更大的光刻幅面,... 

【文章来源】：长春理工大学吉林省

【文章页数】：73 页

【学位级别】：硕士

【部分图文】：

接触式曝光

接近式曝光

投影式曝光

【参考文献】：
期刊论文
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硕士论文
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[6]干涉光刻法制备任意图形微纳结构及其SERS应用的研究[D]. 崔辰静.中国科学技术大学 2016
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[9]基于DMD的数字光刻技术研究[D]. 熊峥.中国科学院研究生院(长春光学精密机械与物理研究所) 2016
[10]基于DLP技术的激光投影系统光路设计[D]. 钟岩.长春理工大学 2016



本文编号：3556586