纳米压印技术脱模过程机理分析

发布时间：2017-06-02 11:09

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【摘要】：为了减少脱模导致的产品缺陷,对纳米压印技术中的脱模机理进行研究。基于界面力学的接触理论提出了模板和聚合物之间作用力的理论模型,利用ANSYS软件模拟模板和聚合物的接触分离过程。采用断裂力学能量平衡理论,通过脱模力和脱模位移之间的关系分析脱模规律和机理。研究结果表明,脱模过程中不同位置接触面上的作用力存在较大差异;高宽比为2和1.5时,脱模力曲线有两个峰值,高宽比为1和0.5时,脱模力曲线有一个峰值;残余层厚度增加,与同一脱模力相对应的脱模位移会相应增大,但不影响最大脱模力的数值。
【作者单位】： 山东科技大学土木工程与建筑学院;
【关键词】： 脱模过程 机理 接触 黏结力 脱模力 脱模位移
【基金】：山东省“泰山学者”建设工程专项资金项目(TSHW 20130956)
【分类号】：TN305.7
【正文快照】： 纳米压印技术[1](nano-imprint lithography,NIL)是目前国际上普遍关注的一种全新的微纳米结构制造技术,因其有低成本、高效率等优点而被看作是最具有工业化应用前景的微纳米结构制造方法之一。由于该技术采用宏观技术手法对物体微观领域进行改造,很难避免产品制造过程中出现

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