反应离子束刻蚀石英同质掩模制作小阶梯光栅

发布时间：2017-10-05 21:47

  本文关键词：反应离子束刻蚀石英同质掩模制作小阶梯光栅

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【摘要】：离子束刻蚀作为真空技术的一种重要应用,已广泛运用于现代微电子器件和微光学器件的制作工艺中。本文结合反应离子束刻蚀与全息光刻技术,针对线密度较低的小阶梯光栅,倾斜刻蚀石英同质掩模,制作了三种在紫外光和可见光波段透射闪耀的小阶梯光栅。第一种光栅线密度为360lp/mm,闪耀角16.8°,在325nm波长的透射衍射效率为74%;第二种和第三种光栅线密度均为400lp/mm,闪耀角为34.7°和43°,其在632.8nm波长的透射衍射效率分别为63%和57%。结果表明,使用CHF_3作为刻蚀气体的反应离子束刻蚀石英同质掩模,所制作的小阶梯光栅在其工作波段透射闪耀的衍射效率为理论值的75%以上,为全息离子束制作低线密度大闪耀角的光栅提供参考。
【作者单位】： 中国科学技术大学国家同步辐射实验室;
【关键词】： 小阶梯光栅 反应离子束刻蚀 闪耀角 衍射效率
【分类号】：TN25
【正文快照】： 小阶梯光栅光谱仪广泛运用于大型光学天文望远镜,对于提高天文望远镜的分辨率起到关键性作用。其工作波段较宽,通常针对各个波段有对应不同参数的光栅提供相应的工作模式以便切换或同时覆盖整个波长。根据光谱仪设计的不同,所需小阶梯光栅线密度较低且闪耀角变化范围比较大[1-

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1 刘颖;徐德权;徐向东;周小为;洪义麟;付绍军;;几种常用光学材料的离子束刻蚀特性研究[J];中国科学技术大学学报;2007年Z1期

2 佘觉觉,王维明;关于用离子束刻蚀作剖面分析时深度值的定标问题[J];物理;1984年02期

3 张建民;;离子束刻蚀固体表面貌相变化的特征曲线及计算机模拟[J];陕西师大学报(自然科学版);1993年03期

4 赵光兴;杨国光;陈洪t，

本文编号：979008