磁控溅镀PVD涂层磨蚀行为及机制研究
【图文】:
重庆大学硕士学位论文 1 绪 论沉积能量进一步增加,,原子具有很高表面扩散能力并开始进行体扩散,形成均匀柱状晶(II 区),此时晶粒内部缺陷少且柱状晶边界非常致密,力学性能得到了提高。继续增加沉积温度,原子体扩散能力提高,出现了再结晶等轴晶组织。随着沉积原子扩散能力提高,涂层结晶性、致密度以及力学性能等均会提升。
.2 采用 MPPMS+PDCMS 沉积的不同 Si 含量的 CrSiN 涂层截面 TEM:(a) 4.8 at.%, at.%, (c) 10.2 at.%, and (d) 20 at.%.[9]Fig. 1.2 Cross-sectional TEM micrographs of the CrSiN coatings deposited usingPPMS+PDCMS with different Si contents: (a) 4.8 at.%, (b) 6.7 at.%, (c) 10.2 at.%, and (dat.%.除了成分控制,在生长过程中原子扩散动能对涂层结构也有重要影响,增加,入射离子动能增加,通过冲击动量转化,原子迁移和扩散增加,积过程中将会发生原子重排和形核,从而达到涂层结构致密化的目的。偏压对涂层 Cr-Si-N 涂层结构的影响可由图 1.3 表示。
【学位授予单位】:重庆大学
【学位级别】:硕士
【学位授予年份】:2018
【分类号】:P75
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