氰化镀铜槽液分析故障处理一例

发布时间：2017-09-15 10:08

本文关键词：氰化镀铜槽液分析故障处理一例

【摘要】：在对氰化镀铜槽液分析化验过程中,出现氰化亚铜含量偏低及氢氧化钠出现黑色沉淀的故障。采用原子吸收光谱法分析铜含量,结合原理分析,确定氰化亚铜含量偏低是因为过硫酸铵失效。通过与标准镀液对比试验,确定氢氧化钠分析中出现黑色沉淀是由于游离氰化钠含量过高,分析中加入的硝酸银过量太多的原因。通过调整分析方法后,该现象得到解决,分析正常。
【作者单位】：中国工程物理研究院机械制造工艺研究所;
【关键词】： 氰化镀铜 氰化亚铜 氢氧化钠 分析故障
【分类号】：TQ153
【正文快照】： 引言氰化镀铜作为常用的打底性镀层,仍广泛应用在军工品生产中,保证槽液各成分在工艺范围是获得良好镀层的关键。本文讨论的是槽液分析中的一次故障原因及解决措施,对同行遇到类似问题有参考意义。1故障现象本单位生产线上的三个氰化镀铜槽溶液配方相同,主要成分及工艺规范如

【相似文献】

中国期刊全文数据库前10条

1 ;难题解答[J];材料保护;1992年11期

2 ;信息[J];电镀与环保;2011年01期

3 方为;;光亮酸性镀铜槽毛刺故障的分析与排除[J];电镀与环保;1986年05期

4 沈品华;光亮酸性镀铜槽中铁杂质的去除方法[J];材料保护;1986年04期

5 金安华;侯敏生;任绪敏;吴泽凯;;以不锈钢制作高温、高稳定化学镀铜槽[J];电镀与精饰;1982年02期

6 奚兵;;问题解答[J];电镀与精饰;1988年02期

7 李兆祥;硫酸盐光亮镀铜槽液中氯离子的控制[J];表面技术;1995年04期

8 傅琼利;;CVS技术在监控电镀铜槽液中的运用[J];印制电路信息;2010年02期

9 ;一次镀铬故障的排除[J];电镀与精饰;1997年04期

10 Takeo Ishida;;日本在电镀及有关方面的研究和工艺发展概况[J];材料保护;1971年05期