层状二硫化钼研究进展

发布时间：2017-09-30 05:13

  本文关键词：层状二硫化钼研究进展

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【摘要】：近年来,层状二硫化钼由于其特殊的类石墨烯结构和独特的物理化学性质已成为国内外研究的热点.本文综述了层状二硫化钼的物理结构、价带结构和光学性质;介绍了制备方法,包括生长制备和剥离制备.生长制备的原料包括四硫代钼酸铵((NH4)_2MoS_4)、钼(Mo)和三氧化钼(MoO_3)等.剥离制备包括微机械剥离、液相超声法、锂离子插层法和电化学锂离子插层法等.归纳了层状二硫化钼在场效应晶体管、传感器和存储方面的应用,展望了层状二硫化钼的研究前景.
【作者单位】： 天津理工大学电子信息工程学院天津市薄膜电子与通信器件重点验室;
【关键词】： 层状二硫化钼 物理结构 制备方法 电子器件
【基金】：国家自然科学基金(批准号:61274113,11204212,61404091) 教育部新世纪优秀人才支持计划(批准号:NCET-11-1064) 天津市科技计划(批准号:13JCYBJC15700,13JCZDJC26100,14JCZDJC31500,14JCQNJC00800) 天津市高等学校科技发展基金(批准号:20100703,20130701,20130702)资助的课题~~
【分类号】：TQ136.12
【正文快照】： 层钼原子的“三明治”夹心结构,层与层之间靠范1引言德华力结合在一起,每层之间的距离约为0.65 nm.Mo S2有着独特的夹带结构,随着层数的减少,带隙自从2004年英国曼切斯特大学Novoselov越来越大,当单层时,Mo S2从间接带隙变成直接带等[1]成功剥离获得石墨烯以来,石墨烯得到了隙

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本文编号：946324