半导体生产含砷废水处理回用工程

发布时间：2017-10-24 17:28

  本文关键词：半导体生产含砷废水处理回用工程

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【摘要】：采用沉淀法—电絮凝法—气浮法—膜分离法四段组合工艺对含砷废水进行处理,原水含砷180~230mg/L,经该工艺处理后出水含砷0.03 mg/L,去除率99.9%。工程运行实践证明:该系统运行稳定、处理效果高,产出的清水用作生产用循环冷却水,大大降低了生产成本。
【作者单位】： 云南中科鑫圆晶体材料有限公司;
【关键词】： 含砷废水 回用 半导体材料
【分类号】：X76
【正文快照】： 砷化镓(Ga As)是目前最成熟的化合物半导体材料之一,广泛运用于高频及无线通讯领域。从高纯砷、高纯镓到砷化镓单晶片的生产工艺相当复杂,使得排放的含砷废水组分复杂[1]。由此,寻找一种合理、有效且成本低的含砷废水处理方法显得尤为重要。笔者针对云南省某半导体材料公司排

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本文编号：1089787