氧化石墨烯还原过程中产生的缺陷表征

发布时间：2017-10-13 12:55

  本文关键词：氧化石墨烯还原过程中产生的缺陷表征

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【摘要】：采用Hummer法对鳞片石墨进行氧化得到氧化石墨,之后经过超声剥离制备氧化石墨烯,最后在水合肼的作用下还原制备石墨烯。采用红外光谱、紫外-可见光光谱、拉曼光谱和原子力显微镜对还原前后的氧化石墨烯进行表征。发现化学还原可以除去氧化石墨烯表面一部分含氧官能团,但同时也引入一些缺陷,还原之后石墨烯的sp~2域的平均尺寸减小。AFM照片分析发现含氧官能团去除之后会在原来的位置产生空洞,从而导致石墨烯缺陷增加。
【作者单位】： 武汉理工大学资源与环境工程学院;矿物资源加工与环境湖北省重点实验室;
【关键词】： 氧化石墨烯 石墨烯 化学还原 缺陷
【分类号】：TQ127.11
【正文快照】： 石墨烯是由单层sp2杂化碳原子排列形成的蜂窝状六角平面晶体。由于石墨烯具有优良的力学、电学、热学和光学等性质,所以在纳米电子器件、生物环境、储能、储氢材料及高性能复合材料等领域有着巨大的应用前景。目前制备石墨烯的方法有微机械剥离法、化学气相沉积法、外延生长法

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