西门子法钟罩炉内三氯氢硅氢还原CVD宏观动力学模型

发布时间：2017-12-27 17:00

  本文关键词：西门子法钟罩炉内三氯氢硅氢还原CVD宏观动力学模型　出处：《中国有色金属学报》2016年09期 　论文类型：期刊论文

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【摘要】：在已导出西门子法三氯氢硅氢还原生成Si-CVD过程本征动力学模型基础上,结合钟罩还原炉内气相物料的基本流动特征和传递-反应-CVD过程,采用反应工程学经典方法,对关键组分在圆柱状硅芯表面CVD层的浓度分布进行分析,导出浓度分布微分方程(零阶贝塞尔方程)和积分方程(零阶贝塞尔函数),建立了Si的沉积速率模型,即考虑CVD层浓度分布时的平均沉积厚度模型和沉积质量模型,忽略CVD层浓度分布时的平均沉积厚度简化模型和沉积质量简化模型。
[Abstract]:The reduction process of Si-CVD generation of the intrinsic kinetics model based method has been derived in SIEMENS hydrogen trichlorosilane, with Bell reduction basic flow characteristics of gas phase material in the furnace and transfer - reaction process of -CVD, using the classical method of reaction engineering, the key components are analyzed in the concentration distribution of cylindrical silicon core surface CVD layer, are derived the concentration distribution of differential equations (zero order Bessel equation) and integral equation (zero order Bessel function), established the deposition rate of the Si model, which consider the CVD layer concentration distribution model and the average deposition thickness of CVD layer deposition quality model, ignoring the average deposition thickness when the concentration distribution of the simplified model and the simplified model of the quality of the deposit.
【作者单位】： 银川能源学院;
【基金】：宁夏高等学校优势特色专业建设项目(宁教高2012348) 银川能源学院科研基金资助项目(2012年度)~~
【分类号】：TQ127.2
【正文快照】： 多晶硅(EG)是电子信息产业的关键基础材料,具有极其重要的战略地位;多晶硅(SG)又是太阳能光伏产业的关键基础材料,是具有重要战略地位的新能源材料。改良西门子法是当今生产高纯多晶硅的主流技术。我国的多晶硅产业起步虽晚,但发展快,生产工艺主要系引进加吸收的改良西门子法,

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本文编号：1342409