《中国真空学会2008年学术年会论文摘要集》2008年

  本文关键词：常压化学气相沉积法制备二氧化钛薄膜的沉积工艺及薄膜均匀性，由笔耕文化传播整理发布。

《中国真空学会2008年学术年会论文摘要集》2008年

薄膜均匀性的研究分析

刘兴悦  干蜀毅  陈长琦  朱武  

【摘要】：薄膜技术在现代科学技术中的重要性与日俱增。薄膜均匀性是衡量薄膜质量和镀膜装置性能的一项重要指标,它在光学、光电等器件的加工工艺中发挥着重要作用。本文介绍了在真空蒸发镀膜中改善薄膜均匀性的方法。在对各种蒸发源所能沉积的膜厚公式进行理论推导的基础上,着重分析了影响薄膜均匀性的各种因素以及改进措施;针对旋转基片的镀膜室,设计了精确的修正挡板形状,从而改善了膜厚的均匀性。

【作者单位】：
【分类号】：TB383.2
【正文快照】：

薄膜均匀性的研究分析@刘兴悦$合肥工业大学真空技术与装备系!合肥,230009 @干蜀毅$合肥工业大学真空技术与装备系!合肥,230009 @陈长琦$合肥工业大学真空技术与装备系!合肥,230009 @朱武$合肥工业大学真空技术与装备系!合肥,230009薄膜技术在现代科学技术中的重

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