电感耦合等离子体原子发射光谱法测定氟化氢气体中16种金属元素
发布时间:2021-01-27 20:14
基于电子工业对氟化氢气体中金属离子含量的严格要求,以自制的简单的气体吸收装置吸收氟化氢气体,通过吸收前后吸收液的质量变化得到氟化氢的质量,采用附带耐氢氟酸进样系统的电感耦合等离子体原子发射光谱仪(ICP-AES)在最优的仪器工作条件下测定吸收液中的钾、镁、铝、钡、锌、铬、钴、镉、铁、铜、镍、铅、锰、钠、钙和锡等16种金属元素的含量。结果表明:16种金属元素的质量浓度均在一定范围内与其对应的光谱强度呈线性关系,相关系数均大于0.999 0,检出限(3s)为0.10~6.0μg·L-1,测定值的相对标准偏差(n=11)为0.96%~5.0%。
【文章来源】:理化检验(化学分册). 2020,56(08)北大核心
【文章页数】:5 页
【部分图文】:
吸收装置示意图
试验考察了冷却气流量分别为1 0.0,1 1.0,12.0,13.0,14.0L·min-1时对1 000μg·L-1混合标准储备溶液中16种元素光谱强度的影响。结果显示,冷却气流量的变化对各元素的光谱强度无明显影响。综合考虑,试验选择冷却气流量为12.0L·min-1。2.5雾化气流量的选择
试验考察了雾化气流量分别为0.30,0.40,0.45,0.50,0.55,0.60,0.70 L·min-1时对1 000μg·L-1混合标准储备溶液中16种元素光谱强度的影响,结果见图3。由图3可知:随着雾化气流量的增加,各元素光谱强度逐渐增大,其中铝、钾、钠元素光谱强度在雾化器流量为0.40L·min-1达到最大,其余元素光谱强度则在雾化器流量为0.50L·min-1时达到最大。因此,试验选择雾化气流量为0.50L·min-1。
【参考文献】:
期刊论文
[1]四氟化硅气体中杂质的检测及净化研究进展[J]. 张丹辉,唐安江,韦德举,黄崇. 应用化工. 2019(02)
[2]氟化氢在有机合成中的应用[J]. 王鹏. 化学与黏合. 2017(06)
[3]无水氟化氢的纯化工艺研究进展[J]. 李丹丹,岳立平,郑艺. 化学工程师. 2017(09)
[4]高纯电子气体中金属杂质分析方法概述[J]. 张文娟. 广州化工. 2015(14)
[5]高纯氨中金属颗粒杂质检测方法[J]. 姜阳,董翊,李春华,陈鹰. 上海计量测试. 2014(06)
[6]SEMI标准关于电子气分析方法概述[J]. 林宇巍. 质量技术监督研究. 2011(03)
[7]电感耦合等离子体原子发射光谱法测定高纯六氟化钨中13种金属元素[J]. 郑秋艳,王少波,李绍波,李本东,李翔宇. 理化检验(化学分册). 2010(08)
[8]电子气体主要杂质分析方法综述[J]. 郑秋艳,王少波,李少波,李翔宇. 低温与特气. 2008(01)
[9]改进的挥硅-ICP-MS法测定高纯四氯化硅中金属杂质[J]. 郭峰,谭红,何锦林,谢锋,曾广铭,宋光林. 福建分析测试. 2006(04)
[10]膜去溶剂化进样ICP-MS法直接测定电子级高纯过氧化氢中痕量金属杂质[J]. 孟蓉,李红华,黄志齐,童淑丽. 化学试剂. 2002(04)
本文编号:3003661
【文章来源】:理化检验(化学分册). 2020,56(08)北大核心
【文章页数】:5 页
【部分图文】:
吸收装置示意图
试验考察了冷却气流量分别为1 0.0,1 1.0,12.0,13.0,14.0L·min-1时对1 000μg·L-1混合标准储备溶液中16种元素光谱强度的影响。结果显示,冷却气流量的变化对各元素的光谱强度无明显影响。综合考虑,试验选择冷却气流量为12.0L·min-1。2.5雾化气流量的选择
试验考察了雾化气流量分别为0.30,0.40,0.45,0.50,0.55,0.60,0.70 L·min-1时对1 000μg·L-1混合标准储备溶液中16种元素光谱强度的影响,结果见图3。由图3可知:随着雾化气流量的增加,各元素光谱强度逐渐增大,其中铝、钾、钠元素光谱强度在雾化器流量为0.40L·min-1达到最大,其余元素光谱强度则在雾化器流量为0.50L·min-1时达到最大。因此,试验选择雾化气流量为0.50L·min-1。
【参考文献】:
期刊论文
[1]四氟化硅气体中杂质的检测及净化研究进展[J]. 张丹辉,唐安江,韦德举,黄崇. 应用化工. 2019(02)
[2]氟化氢在有机合成中的应用[J]. 王鹏. 化学与黏合. 2017(06)
[3]无水氟化氢的纯化工艺研究进展[J]. 李丹丹,岳立平,郑艺. 化学工程师. 2017(09)
[4]高纯电子气体中金属杂质分析方法概述[J]. 张文娟. 广州化工. 2015(14)
[5]高纯氨中金属颗粒杂质检测方法[J]. 姜阳,董翊,李春华,陈鹰. 上海计量测试. 2014(06)
[6]SEMI标准关于电子气分析方法概述[J]. 林宇巍. 质量技术监督研究. 2011(03)
[7]电感耦合等离子体原子发射光谱法测定高纯六氟化钨中13种金属元素[J]. 郑秋艳,王少波,李绍波,李本东,李翔宇. 理化检验(化学分册). 2010(08)
[8]电子气体主要杂质分析方法综述[J]. 郑秋艳,王少波,李少波,李翔宇. 低温与特气. 2008(01)
[9]改进的挥硅-ICP-MS法测定高纯四氯化硅中金属杂质[J]. 郭峰,谭红,何锦林,谢锋,曾广铭,宋光林. 福建分析测试. 2006(04)
[10]膜去溶剂化进样ICP-MS法直接测定电子级高纯过氧化氢中痕量金属杂质[J]. 孟蓉,李红华,黄志齐,童淑丽. 化学试剂. 2002(04)
本文编号:3003661
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