冲旋对撞粉碎技术的微观理论基础
发布时间:2021-07-15 13:25
从硅晶体变形的力学基础、晶体变形力学模型、力能流的粉碎效能、硅晶体粉碎过程4方面深入阐述了冲旋对撞粉碎技术的微观理论基础。
【文章来源】:有机硅材料. 2020,34(02)
【文章页数】:7 页
【部分图文】:
原子结合力、势能与间距的关系
为更深入掌握物料粉碎微观理论,下文介绍了原子在受拉、劈、切等外力作用时的原子键变形状况。图2为原子在拉伸作用下力和能的变化。原子键长度为a0时,势能和动能均最低。在拉伸作用下,a逐渐增大,直至am时原子间结合力最大,伴随着拉力(Fb)进一步增大,原子键断裂,外加拉伸能量Pb为原子结合势能所吸收,以此提高本身势能和动能,原子的晶格振动增大,稳定性降低,原子活性增强。
挤压外力多点施加于晶粒上,首先引起受压(迫击)面层原子晶格受压,原子键缩短,斥力增大,迫使附近晶格传递外力,引起原子外移(见图3),拉伸原子键至断裂,晶体出现裂纹和裂缝,并逐渐碎裂。这与硅抗压试验中,晶体在受力时的宏观表现一致:先外层开裂,裂缝直下,继而斜向(约45°)伸展、碎裂[6]。图4的抗压强度曲线演示了脆性物料(如工业硅)拍击粉碎时的应力应变过程。受力初期,应力近直线增长,此时晶体压缩、原子键变短、斥力增大;待原子键不能再压缩传力时,抗力不增,开始向周边晶格传力,出现小的变形,显示出短暂的混沌临界顺碎段,紧接着引起周边晶格原子键拉长,抗力增大,键受损并出现裂纹,转向45°倾斜开裂,键断裂,碎裂程度大、面积广,得到细碎硅粉粒。2.2 劈击碎裂
【参考文献】:
期刊论文
[1]硅粉品质优化技术[J]. 常森,余敏. 有机硅材料. 2019(03)
[2]硅粉反应活性与对撞粉碎效用[J]. 常森,周功均,余敏. 有机硅材料. 2017(01)
本文编号:3285790
【文章来源】:有机硅材料. 2020,34(02)
【文章页数】:7 页
【部分图文】:
原子结合力、势能与间距的关系
为更深入掌握物料粉碎微观理论,下文介绍了原子在受拉、劈、切等外力作用时的原子键变形状况。图2为原子在拉伸作用下力和能的变化。原子键长度为a0时,势能和动能均最低。在拉伸作用下,a逐渐增大,直至am时原子间结合力最大,伴随着拉力(Fb)进一步增大,原子键断裂,外加拉伸能量Pb为原子结合势能所吸收,以此提高本身势能和动能,原子的晶格振动增大,稳定性降低,原子活性增强。
挤压外力多点施加于晶粒上,首先引起受压(迫击)面层原子晶格受压,原子键缩短,斥力增大,迫使附近晶格传递外力,引起原子外移(见图3),拉伸原子键至断裂,晶体出现裂纹和裂缝,并逐渐碎裂。这与硅抗压试验中,晶体在受力时的宏观表现一致:先外层开裂,裂缝直下,继而斜向(约45°)伸展、碎裂[6]。图4的抗压强度曲线演示了脆性物料(如工业硅)拍击粉碎时的应力应变过程。受力初期,应力近直线增长,此时晶体压缩、原子键变短、斥力增大;待原子键不能再压缩传力时,抗力不增,开始向周边晶格传力,出现小的变形,显示出短暂的混沌临界顺碎段,紧接着引起周边晶格原子键拉长,抗力增大,键受损并出现裂纹,转向45°倾斜开裂,键断裂,碎裂程度大、面积广,得到细碎硅粉粒。2.2 劈击碎裂
【参考文献】:
期刊论文
[1]硅粉品质优化技术[J]. 常森,余敏. 有机硅材料. 2019(03)
[2]硅粉反应活性与对撞粉碎效用[J]. 常森,周功均,余敏. 有机硅材料. 2017(01)
本文编号:3285790
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