钕铁硼表面脉冲电镀Ni-Al/Ni-Cr复合镀层的制备及性能研究
发布时间：2022-02-16 13:02
钕铁硼磁性材料因其具有优异的磁性能而被广泛应用，成为现代工业和电子技术领域十分重要的功能材料。由于钕是化学活性很高的金属元素之一，而且钕铁硼材料本身具有多相结构，各相间电化学位具有差异，导致钕铁硼材料在暖湿气流，电化学环境及长时间的高温环境下极易发生腐蚀，同时也会造成材料磁性能的下降，影响材料的使用。目前，钕铁硼磁性材料防腐蚀处理主要采用表面防护方法，其中电镀技术应用广泛，尤其脉冲电镀技术在钕铁硼磁性材料腐蚀防护方面表现出显著的优越性，复合电沉积则可以获得性能优异的钕铁硼表面防护涂层。本文以低温镀镍镀液为基础镀液，以钕铁硼磁性材料为基材，通过单脉冲电沉积方式，在钕铁硼材料表面电沉积Ni镀层，通过探究平均电流密度和占空比对镀层性能的影响，选择确定较佳脉冲电沉积参数，并在这一参数条件下通过向基础镀液中添加纳米Cr粉及纳米Al粉制备脉冲NdFeB-Ni-Cr、NdFeB-Ni-Al复合镀层。采用扫描电镜（SEM）、能谱分析和XRD方法，分别观察镀层表面形貌，分析镀层微观结构；利用动电位极化曲线和交流阻抗测试方法，研究不同条件下制备的镀层在浓度为3.5%NaCl溶液中的耐腐蚀性能；利用显微硬度...
【文章来源】：沈阳工业大学辽宁省
【文章页数】：60 页
【学位级别】：硕士
【部分图文】：
不同电流密度条件下NdFeB-Ni镀层的表面形貌
度条件下的 NdFeB-Ni 镀层在 3.5%NaCl 溶液中lent circuit model of NdFeB-Ni coatings on diffein 3.5%NaCl solution下的 NdFeB-Ni 镀层在 3.5%NaCl 溶液中的交emical parameters of Equivalent circuit of EIS foon different current densities in 3.5%NaCl solutioRs/(ohm cm2)Rp/(ohm cm2) 8.253 6182 9.524 7440 5.486 6880 6.186 4545 0.4时，平均电流密度为1.0A/dm2、2.0A/deB-Ni镀层显微硬度与平均电流密度的关和表 3.3 中的硬度值可以看出，随着平均当平均电流密度为 2.0A/dm2时，硬度值逐渐增加时，阴极极化逐渐增大，而阴
图 3.6 不同占空比条件下 NdFeB-Ni 镀层的形貌Fig.3.6 Surface morphology of NdFeB-Ni coatings on different pulse duty cycle(a-r=0.2,b-r=0.4,c- r=0.6,d- r=0.8)图 3.7 是平均电流密度为 2.0A/dm2时，脉冲占空比分别为 0.2，0.4，0.6，0.8 条NdFeB-Ni镀层在浓度为 3.5%的NaCl溶液中的动电位极化曲线。经分析可知镀层的学腐蚀参数，所对应的数据见表 3.4 所示。由图 3.7 可以看到占空比为 0.4 时镀层度为 3.5%的NaCl溶液中钝化区最平整，由表 3.4 中的数据可知，不同占空比条件Ni镀层自腐蚀电位Ecorr比较接近，但占空比为 0.4 时镀层的过钝电位Etp明显高于其件的镀层的过钝电位，而该条件下镀层的维钝电位Ep最小，说明钝化区最大，这 3.7 中看到的动电位极化曲线结果一致，表明占空比为 0.4 时镀层耐腐蚀性能最好
【参考文献】：
期刊论文
[1]中国稀土永磁产业现状及技术发展新动向[J]. 刘荣明. 新材料产业. 2013(01)
[2]钕铁硼稀土磁体产业发展及市场前景[J]. 胡伯平. 磁性材料及器件. 2012(06)
[3]NdFeB永磁材料腐蚀与防护研究进展[J]. 宋振纶. 磁性材料及器件. 2012(04)
[4]钕铁硼永磁材料表面防护技术的研究进展[J]. 严芬英,赵春英,张琳. 电镀与精饰. 2012(08)
[5]脉冲电沉积工艺参数对Ni-W-P合金镀层性能的影响[J]. 孙晓东,赵芳霞,张振忠. 电镀与环保. 2012(03)
[6]钕铁硼电镀技术生产现状与展望[J]. 刘伟,侯进. 电镀与精饰. 2012(04)
[7]脉冲电镀Ni-P合金工艺及镀层的耐蚀性能[J]. 龙慧,陈小华,易斌,曾斌,曾雄,刘云泉. 材料保护. 2012(03)
[8]钕铁硼永磁材料的性能及研究进展[J]. 胡文艳. 现代电子技术. 2012(02)
[9]Nd-Dy-Fe-Co-B磁体的环境加速腐蚀行为研究[J]. 李家节,李安华,刘国军,赵睿,朱明刚,李卫. 功能材料. 2011(03)
[10]烧结NdFeB磁钢表面层抗腐蚀实验分析[J]. 刘朝晖,刘丽华,关玉,严世洪. 微特电机. 2010(04)
硕士论文
[1]NdFeB表面NiP/TiO2复合膜形成与耐蚀性研究及废液中Ni～（2+）去除[D]. 赵静.燕山大学 2006
本文编号：3628015
【文章来源】：沈阳工业大学辽宁省
【文章页数】：60 页
【学位级别】：硕士
【部分图文】：
不同电流密度条件下NdFeB-Ni镀层的表面形貌
度条件下的 NdFeB-Ni 镀层在 3.5%NaCl 溶液中lent circuit model of NdFeB-Ni coatings on diffein 3.5%NaCl solution下的 NdFeB-Ni 镀层在 3.5%NaCl 溶液中的交emical parameters of Equivalent circuit of EIS foon different current densities in 3.5%NaCl solutioRs/(ohm cm2)Rp/(ohm cm2) 8.253 6182 9.524 7440 5.486 6880 6.186 4545 0.4时，平均电流密度为1.0A/dm2、2.0A/deB-Ni镀层显微硬度与平均电流密度的关和表 3.3 中的硬度值可以看出，随着平均当平均电流密度为 2.0A/dm2时，硬度值逐渐增加时，阴极极化逐渐增大，而阴
图 3.6 不同占空比条件下 NdFeB-Ni 镀层的形貌Fig.3.6 Surface morphology of NdFeB-Ni coatings on different pulse duty cycle(a-r=0.2,b-r=0.4,c- r=0.6,d- r=0.8)图 3.7 是平均电流密度为 2.0A/dm2时，脉冲占空比分别为 0.2，0.4，0.6，0.8 条NdFeB-Ni镀层在浓度为 3.5%的NaCl溶液中的动电位极化曲线。经分析可知镀层的学腐蚀参数，所对应的数据见表 3.4 所示。由图 3.7 可以看到占空比为 0.4 时镀层度为 3.5%的NaCl溶液中钝化区最平整，由表 3.4 中的数据可知，不同占空比条件Ni镀层自腐蚀电位Ecorr比较接近，但占空比为 0.4 时镀层的过钝电位Etp明显高于其件的镀层的过钝电位，而该条件下镀层的维钝电位Ep最小，说明钝化区最大，这 3.7 中看到的动电位极化曲线结果一致，表明占空比为 0.4 时镀层耐腐蚀性能最好
【参考文献】：
期刊论文
[1]中国稀土永磁产业现状及技术发展新动向[J]. 刘荣明. 新材料产业. 2013(01)
[2]钕铁硼稀土磁体产业发展及市场前景[J]. 胡伯平. 磁性材料及器件. 2012(06)
[3]NdFeB永磁材料腐蚀与防护研究进展[J]. 宋振纶. 磁性材料及器件. 2012(04)
[4]钕铁硼永磁材料表面防护技术的研究进展[J]. 严芬英,赵春英,张琳. 电镀与精饰. 2012(08)
[5]脉冲电沉积工艺参数对Ni-W-P合金镀层性能的影响[J]. 孙晓东,赵芳霞,张振忠. 电镀与环保. 2012(03)
[6]钕铁硼电镀技术生产现状与展望[J]. 刘伟,侯进. 电镀与精饰. 2012(04)
[7]脉冲电镀Ni-P合金工艺及镀层的耐蚀性能[J]. 龙慧,陈小华,易斌,曾斌,曾雄,刘云泉. 材料保护. 2012(03)
[8]钕铁硼永磁材料的性能及研究进展[J]. 胡文艳. 现代电子技术. 2012(02)
[9]Nd-Dy-Fe-Co-B磁体的环境加速腐蚀行为研究[J]. 李家节,李安华,刘国军,赵睿,朱明刚,李卫. 功能材料. 2011(03)
[10]烧结NdFeB磁钢表面层抗腐蚀实验分析[J]. 刘朝晖,刘丽华,关玉,严世洪. 微特电机. 2010(04)
硕士论文
[1]NdFeB表面NiP/TiO2复合膜形成与耐蚀性研究及废液中Ni～（2+）去除[D]. 赵静.燕山大学 2006
本文编号：3628015
本文链接：https://www.wllwen.com/kejilunwen/huaxuehuagong/3628015.html
教材专著
