ICP-MS/MS直接测定高纯Eu 2 O 3 中超痕量的铥、砷、硅

发布时间：2022-05-10 20:16

　　运用三重串联电感耦合等离子质谱（ICP-MS/MS）仪直接测定高纯Eu₂O₃中超痕量的Tm,As和Si。采用H₂的原位质量法和O₂质量转移法,有效克服了基体对待测元素的干扰。通过优化仪器参数得到Tm,As和Si的背景等效浓度分别为0.0005763,0.08435,8.268μg·L^-1。在选定条件下,样品加标回收率为95.74%~103.82%,相对标准偏差（RSD）为0.22%~4.38%。本方法简单实用,能够满足纯度99.999%以上的高纯Eu₂O₃中杂质元素的快速测定。 

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【文章目录】：
1 实验
    1.1 仪器与试剂
    1.2 标准溶液配制
    1.3 仪器参数
    1.4 样品分析
2 结果与讨论
    2.1 Eu2O3基体的干扰效应及消除
        2.1.1 Eu2O3基体中Si的测定
        2.1.2 Eu2O3基体中As的测定
        2.1.3 Eu2O3基体中Tm的测定
    2.2 线性及检出限
    2.3 分析结果,加标回收及精密度
        2.3.1 方法精密度
        2.3.2 加标回收率
    2.4 实际样品分析
3 结论


【参考文献】：
期刊论文
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[8]在线柱分离ICP-MS测定高纯Eu2O3中Tm[J]. 李继东,伍星,郑永章.  分析科学学报. 2002(01)
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[10]TBP萃取分离-铬天青S光度法测定高纯稀土氧化物中的痕量铁[J]. 刘德龙,阎俊英.  光谱实验室. 2000(04)



本文编号：3652624