不同硅烷修饰的MFI分子筛膜及其H 2 /CO 2 分离性能

发布时间：2022-07-07 12:48

　　通过NH4+离子交换的方法获得了HMFI分子筛膜,采用在线化学气相沉积法（CVD）对其进行晶内孔道修饰,以提高其对H2的分离选择性.实验考察了四乙氧基硅烷（TEOS）、甲基二乙氧基硅烷（MDES）和三甲基乙氧基硅烷（TMES）3种不同尺寸修饰源对膜性能的影响.结果表明,尺寸较小的TMES更容易扩散进入分子筛膜的晶内孔道,从而获得了更优的H2/CO2分离性能,修饰后的膜在500℃下H2/CO2的分离因子可达45.9,H2的渗透性为1.43×10-7 mol/（m2·s·Pa）.同时,通过质谱（MS）分析了TMES在HMFI分子筛孔道中的裂解行为,探讨了硅烷修饰的的沉积机理. 

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【参考文献】：
期刊论文
[1]MFI型分子筛膜晶内孔道的在线CVD调变[J]. 吴再娟,洪周,张玉亭,顾学红.  南京工业大学学报(自然科学版). 2013(04)
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本文编号：3656444