可见光多相Fenton-A/O联合工艺处理电镀难降解有机物的研究
【文章页数】:93 页
【学位级别】:硕士
【部分图文】:
图1-2后置反硝化工艺流程图??Fig.?1-2?Post-denitrification?process?flow?chart??
?第一章绪论???A/0工艺流程是在前人研究的基础上,经过一系列改良而传承的。起初是??Wuhrmann等人设计的后置反硝化工艺,即污水先流入好氧池完成硝化反应将有??机物去除,而后流入缺氧池完成反硝化反应将有机氮去除[73]。工艺流程见图1-2。??二沉池??进水???F-?■....
图1-3改良工艺流程图??Fig.?1-3?Improved?process?flow?chart??
?第一章绪论???A/0工艺流程是在前人研究的基础上,经过一系列改良而传承的。起初是??Wuhrmann等人设计的后置反硝化工艺,即污水先流入好氧池完成硝化反应将有??机物去除,而后流入缺氧池完成反硝化反应将有机氮去除[73]。工艺流程见图1-2。??二沉池??进水???F-?■....
图1-4?A/O工艺流程图??Fig.?1-4?A/O?process?flow?chart??
?第一章绪论???A/0工艺流程是在前人研究的基础上,经过一系列改良而传承的。起初是??Wuhrmann等人设计的后置反硝化工艺,即污水先流入好氧池完成硝化反应将有??机物去除,而后流入缺氧池完成反硝化反应将有机氮去除[73]。工艺流程见图1-2。??二沉池??进水???F-?■....
图2-1催化降解反应实景图??Fig.?2-1?Actual?picture?of?catalytic?degradation?reaction??
?北京化工大学专业学位硕士研宄生学位论文???MVL-210功率为290?W、波长范围为400?600?nm的可见光照射装置。试验开??始前,打开可见光照射装置经30min光源稳定后,用紫外辖照计将420nm处的??光强调节为50?W/m2;为避免磁性转子搅拌对磁性材料团聚的影响....
本文编号:3976169
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