电子级多晶硅生产关键工艺分析
发布时间:2024-05-18 09:48
文章介绍了几种常见的电子级多晶硅生产技术,分析了我国在该项目中的主要特征和优势,并指出在生产电子级多晶硅时应注意的关键工艺,以期为有关部门提供参考。
【文章页数】:2 页
【文章目录】:
1 常见电子级多晶硅的生产技术
1.1 硅烷CVD法
1.2 改良西门子法
1.3 气液沉积法
2 我国生产电子级多晶硅的主要项目特征与优势
2.1 提升了控制精馏装置的水准
2.2 明显提高了产品的质量
2.3 低温SiCl4转化技术的应用优势
3 生产电子级多晶硅时应注意的关键工艺
3.1 生产原辅料
3.2 工艺硬件
3.3 项目还原工艺
3.4 其余关键工艺要点
4 结束语
本文编号:3976755
【文章页数】:2 页
【文章目录】:
1 常见电子级多晶硅的生产技术
1.1 硅烷CVD法
1.2 改良西门子法
1.3 气液沉积法
2 我国生产电子级多晶硅的主要项目特征与优势
2.1 提升了控制精馏装置的水准
2.2 明显提高了产品的质量
2.3 低温SiCl4转化技术的应用优势
3 生产电子级多晶硅时应注意的关键工艺
3.1 生产原辅料
3.2 工艺硬件
3.3 项目还原工艺
3.4 其余关键工艺要点
4 结束语
本文编号:3976755
本文链接:https://www.wllwen.com/kejilunwen/huaxuehuagong/3976755.html
教材专著