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微波介质陶瓷谐振器磁控溅射金属化的研究

发布时间:2017-10-03 13:16

  本文关键词:微波介质陶瓷谐振器磁控溅射金属化的研究


  更多相关文章: 微波介质谐振器 磁控溅射 金属化复合膜系 膜层附着力 品质因数


【摘要】:因介电常数高、品质因数高、温度稳定性好,微波介质陶瓷被广泛应用于无线通信、航空航天以及军用雷达等领域,以制作各种无源微波元件,如介质电容器、微波滤波器及介质天线等。在目前的高新技术中,电子元器件向更高可靠性和更小尺寸的方向发展,对高性能的微波介质陶瓷的需求日渐紧迫,因此微波介质陶瓷成为功能材料领域的研究热点。微波介质加载的腔体滤波器在无线通信基站中有着重要的应用前景,是实现基站滤波器小型化的最佳方案,但是目前因品质因数(Q值)较小而制约了它的实际应用。介质加载腔体滤波器的Q值主要由材料的介质损耗和金属膜的电导损耗所决定的,介质损耗经由材料性质的改善已大幅降低,而关于电导损耗的研究较少,金属化工艺基本仍沿用传统的丝印烧银技术。丝印烧银金属化膜的电导损耗较大,已成为限制滤波器Q值的主要因素。本文旨在研究新型的微波介质陶瓷金属化工艺,以期降低电导损耗,从而提高器件的Q值。具体的讲,本文采用直流磁控溅射工艺对相对介电常数为45的微波介质陶瓷谐振器进行金属化研究,探究不同的清洗工艺和复合膜系对介质谐振器性能的影响,并与传统的丝印烧银工艺进行性能比较。磁控溅射是一种绿色环保的金属化工艺,将其应用在微波介质滤波器领域,对无线基站滤波器的绿色制造及产品性能提高具有积极意义。论文的主要工作和成果有:1.详细分析了微波介质滤波器的应用需求,对微波介质陶瓷表面金属化工艺作了较为全面的分析综述。针对传统的丝印烧银工艺存在的不足,提出了绿色环保且性能较佳的多层膜系磁控溅射金属化工艺。2.理论分析了在微波介质谐振器表面镀覆不同膜系、不同厚度的金属化膜层对于器件性能(如谐振频率、Q值)的影响,利用HFSS有限元电磁仿真软件对相对介电常数为45的微波介质陶瓷谐振器进行了仿真分析,结果表明,Cr/Cu/Ag复合膜系理论性能最佳,工作频率在960MHz附近,理论Q值可达到2720。3.提出了一种射频等离子清洗和低气压溅射过渡层金属相结合的方法,以提高基底与膜层之间的附着力和器件的Q值、对不同膜系、不同厚度的金属化膜层进行了一系列的实验制备与性能验证,测试比较了膜层的附着力和Q值。实验表明,经表面精细打磨和射频等离子清洗后的介质谐振器,采用磁控溅射Cr/Cu/Ag复合膜系的膜层附着力为6.4 MPa, Q值最大可达到2673,远优于传统的丝印烧银工艺的1.8 MPa附着力和2268的Q值。
【关键词】:微波介质谐振器 磁控溅射 金属化复合膜系 膜层附着力 品质因数
【学位授予单位】:浙江大学
【学位级别】:硕士
【学位授予年份】:2016
【分类号】:TQ174.1
【目录】:
  • 致谢4-6
  • 摘要6-8
  • Abstract8-15
  • 第1章 绪论15-29
  • 1.1 课题研究背景及意义15-17
  • 1.2 基于无线移动通信基站的微波介质陶瓷17-23
  • 1.2.1 微波介质陶瓷的发展及研究现状18-20
  • 1.2.2 介质谐振腔体滤波器20-22
  • 1.2.3 微波介质陶瓷表面金属化的必要性22-23
  • 1.3 微波介质陶瓷金属化工艺研究23-27
  • 1.3.1 主要的金属化方法23-26
  • 1.3.2 现有金属化工艺的不足26-27
  • 1.4 本课题的主要研究内容和章节安排27-29
  • 第2章 微波介质谐振器的理论分析和测量方法29-39
  • 2.1 微波电路基本理论29-30
  • 2.2 微波介质谐振器30-37
  • 2.2.1 背景和发展历史30-32
  • 2.2.2 基本类型和工作模式32-36
  • 2.2.3 主要技术指标36-37
  • 2.3 介质谐振器的测量方法37-38
  • 2.4 本章小结38-39
  • 第3章 微波介质谐振器表面金属化工艺研究和仿真39-57
  • 3.1 金属化的意义39-41
  • 3.2 设计指标41
  • 3.3 表面状态预处理的研究41-47
  • 3.3.1 表面研磨工艺41-42
  • 3.3.2 介质清洗方法42-47
  • 3.4 介质谐振器表面金属化设计及性能仿真47-55
  • 3.4.1 多层金属膜的理论分析47-50
  • 3.4.2 建立仿真模型50-53
  • 3.4.3 仿真结果分析53-55
  • 3.5 本章小结55-57
  • 第4章 金属化膜层的制备与实现57-67
  • 4.1 金属化制备所需的实验设备57-60
  • 4.1.1 等离子清洗装置57-58
  • 4.1.2 磁控溅射仪58-60
  • 4.2 金属化膜层的制备60-66
  • 4.2.1 磁控溅射参数60-61
  • 4.2.2 制备流程61-63
  • 4.2.3 两步气压法溅射过渡层金属63-64
  • 4.2.4 馈电孔周围处理方法64-66
  • 4.3 本章小结66-67
  • 第5章 测试结果与分析67-75
  • 5.1 膜层附着力67-70
  • 5.1.1 介质表面状态67-69
  • 5.1.2 不同的金属膜系69-70
  • 5.2 质因数Q70-74
  • 5.3 本章小结74-75
  • 第6章 总结与展望75-79
  • 6.1 主要的工作内容和成果75-76
  • 6.2 主要存在的问题及后续可能的改进方向76-79
  • 参考文献79-83
  • 作者简介及在校期间取得的科研成果83

【参考文献】

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本文编号:965419

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