偏压对Cr-Si-N涂层的结构与性能的影响

发布时间：2017-10-21 20:31

  本文关键词：偏压对Cr-Si-N涂层的结构与性能的影响

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【摘要】：Cr-Si—N涂层具有较高的硬度,良好的耐磨损抗氧化功能。本文采用磁控溅射沉积方法,以偏压为变量,在三种基片上制备Cr—Si—N涂层。本研究采用X射线衍射仪和扫描型电子显微镜表征偏压对Cr—Si-N涂层的结构的影响;采用纳米压痕仪、残余应力仪、摩擦磨损机等测试偏压对Cr-Si-N涂层的性能的影响。XRD结果显示,随着偏压增加,晶粒变小,并且衍射峰逐渐向小角度偏移。SEM结果显示,随着偏压从0增至-50 V,涂层的柱状晶结构趋于致密化。偏压为0 V,硬度是12.4GPa,偏压增至-50 V,硬度增至35.5 GPa,提高了近两倍。偏压对磨损量影响很小,在偏压为-10 V时,磨损率最小。
【作者单位】： 上海大学材料科学与工程学院;中国科学院海洋新材料与应用技术重点实验室浙江省海洋材料与防护技术重点实验室中国科学院宁波材料技术与工程研究所;
【关键词】： 物理气相沉积磁控溅射 偏压 Cr-Si-N涂层 机械性能 摩擦行为
【分类号】：TG174.4
【正文快照】： 目前,硬质涂层的研究和应用在电子、机械等 领域受到了广泛关注,其中物理气相沉积得到的纳 米尺度硬质涂层兼具很多优点,如硬度高、耐磨性 优良且具有较好的耐腐蚀性,这使其在表面防护等领域具有很高的应用价值[1_2]。近年来,过渡金属 氮化物涂层兼具较优良的综合性能,这使其，

本文编号：1075133