气体放电伏安特性对TiN薄膜结构和性能的影响

发布时间：2018-01-19 22:34

本文关键词： 伏安特性 TiN薄膜热发射离化率　出处：《稀有金属材料与工程》2017年05期 　论文类型：期刊论文

【摘要】：针对溅射离子镀离化率低及多弧离子镀易产生微米级熔滴喷溅这一长期制约离子镀技术发展的难题,依据金属靶材内部电子在通过电阻值较大的组织缺陷处会导致该区域温度上升的焦耳热效应和金属表面高温下电子热发射等物理学现象,建立以离子碰撞和靶材热发射为脱靶机制的新型微弧离子镀技术。通过氩离子的轰击动能和金属靶材内电流的焦耳热效应共同促使靶面缺陷处温度迅速上升,增加了该区域内电子和原子的动能使其能够克服表面势垒从靶材表面大量逸出。等离子区内靶材原子和电子数量的增加提高了镀料粒子的碰撞离化率,且靶面未出现明显电弧避免了靶材表面的熔融喷溅,从而获得高离化率和高密度的镀料粒子。实验结果表明:微弧离子镀技术制备的TiN薄膜具有致密的结构、良好的表面质量、较高的显微硬度、较强的膜基结合力和良好的抗腐蚀性能。
[Abstract]:A novel micro - arc ion plating technique is established by means of ion collision and electron thermal emission at high temperature . The results show that the TiN film prepared by micro - arc ion plating technology has a compact structure , good surface quality , higher microhardness , stronger film - based bonding force and good corrosion resistance .

【作者单位】：西安理工大学;南京工业大学;
【基金】：国家自然科学基金(51271144)
【分类号】：TG174.4
【正文快照】： 随着社会经济与科学技术的迅速发展,人们对各融易产生微米级大颗粒喷溅降低薄膜表面质量[6],因类产品抵御外界不良环境的能力和长期运行的可靠此多弧离子镀技术的发展受到了严重制约。而具有低性、稳定性等提出了更高的要求。为了使现有产品或温沉积环境、易实现多组分共沉积

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