负偏压对纯Cr涂层表面液滴及涂层结合力的影响

发布时间：2018-04-18 23:42

本文选题：多弧离子镀 + 负偏压　；参考：《真空科学与技术学报》2017年02期

【摘要】：采用多弧离子镀技术于不同负偏压条件下在锆合金表面沉积纯Cr涂层。利用扫描电子显微镜、X射线衍射仪和划痕仪分析了纯Cr涂层表面形貌和择优生长取向变化规律,并对涂层膜基结合力进行表征。结果表明:负偏压不同,纯Cr涂层上液滴分布和择优生长取向都有较大的影响。其中随着负偏压的增加,纯Cr涂层表面液滴的数量和尺寸先减少后增加的趋势,同时纯Cr涂层晶体择优生长趋势由(200)晶面转向(110)晶面;纯Cr涂层的膜/基结合力随负偏压的增加逐渐增大。
[Abstract]:Pure Cr coating was deposited on the surface of zirconium alloy by multi-arc ion plating under different negative bias voltage.The surface morphology and preferred growth orientation of pure Cr coatings were analyzed by scanning electron microscopy (SEM) and scratch tester. The adhesion of the coatings was characterized.The results show that the droplet distribution and preferred growth orientation of Cr coating are greatly affected by the negative bias voltage.With the increase of negative bias voltage, the number and size of droplets on the surface of pure Cr coating decrease first and then increase, and the preferred growth trend of pure Cr coating crystal changes from the crystal plane of 200 to the crystal plane of 110).The adhesion of pure Cr coating increases with the increase of negative bias voltage.
【作者单位】：南华大学机械工程学院;国家电投集团中央研究院;
【基金】：国家科技重大专项子课题项目(2015ZX06004001-002) 湖南省重点学科建设项目(湘教发[2011]76) 湖南省高校重点实验室基金项目(湘教发[2014]85)
【分类号】：TG174.4

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