元素替换与等温退火对铁基非晶合金结构性能的影响
【图文】:
图 1.1 液体冷却时的时间-温度-结晶的“3T 曲线”Fig 1.1 The temperature-time-phase transition curve of liquid under cooling.1.2.3 非晶态合金形成的结构学影响因素随着对非晶体系的深入研究,科研人员尝试探讨在结构学上描述非晶态的形成。对于物质结构我们从化学键类型来看,离子键是不饱和键,且由其构成的结构具有密堆积排列、配位数高等特性,金属键特性与之相似。我们认为内部键型只含有离子键和金属键的物质就不易形成非晶态,但是结构中只有共价键也难以形成非晶态。只有当合金成分中具有离子-共价过渡的混合键型,使得合金既具备离子键容易变更键角容易形成不对称结构的趋势、又具备共价键键长和键角较为稳定的状态才最易形成非晶态。非晶合金的制备研究从简单的二元或三元金属玻璃体系发展至四元以上的多元体系;从使用贵金属铂、钯到使用较便宜的 Zr、Ni、稀土元素,,再延伸到大量使用工业上常见的 Fe、Cu 等元素。根据这些研究,Inoue等人提出了不同性质元素组合形成非晶态相关研究观点。大致可以分为 3 类:一是类金属元素又称弱金属元素与非金属元素的组合。二是准金属元素和金属元素
图 2.2 非晶制备技术发展历程[3]Fig.2.2 The development process of amorphous preparation technology.2.2.1 从气态制备非晶态合金Ⅰ. PVD 物理气相沉积物理气相沉积(PVD)指的是利用物理手段将物质热蒸发或使用粒子束轰击物质,目的是使该物质表面原子向外逸出,然后冷却附着在基体上的现象。该方法实现了物质从原物质到薄膜的可控的原子转移过程,且由于冷却速率的关系可以制备出非晶态结构的金属合金。蒸发法和溅射法是 PVD 技术中最为基本的两种方法,另外例如有离子束等方法。物理气相沉积法主要是三个步骤:1,从靶材材料中激发出该物质的粒子;2,将该物质粒子运输到基片;3,使粒子在基片上凝结堆积成膜。Ⅱ. CVD 化学气相沉积CVD 技术即化学气相沉积。可想而知我们制备合金薄膜使用的反应物为气态,通过气态原子、分子间化学反应的方式附着在基体上生成固态薄膜的技术[14]。CVD
【学位授予单位】:合肥工业大学
【学位级别】:硕士
【学位授予年份】:2018
【分类号】:TG156;TG139.8
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本文编号:2666921
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