AlON/TiAlON D /TiAlON M /Cu光谱选择性吸收涂层高温真空稳定性研究

发布时间：2021-02-17 02:33

　　利用扫描电子显微镜（SEM）、X射线衍射仪（XRD）、透射电镜（TEM）和俄歇电子能谱仪（AES）研究了AlON/TiAlON_D/TiAlON_M/Cu选择性吸收涂层高温真空条件下显微形貌、结构与化学成分的变化。结果表明,退火前后选择性吸收涂层的多层膜结构和微观形貌保持稳定。制备态涂层的AlON层和TiAlON_D层为非晶结构,TiAlON_M层由非晶基体和分散的晶粒组成。550℃高温真空退火24 h后,TiAlON_M层发生晶化,晶粒长大。退火过程中,O元素从AlON层扩散至TiAlON双吸收层,而N元素从TiAlON双吸收层扩散至AlON层,同时膜层界面区域变宽。高温真空处理后涂层的吸收率略有降低,而发射率保持不变。晶化导致TiAlON_M层吸光性能下降,以及N和O元素扩散导致最优化结构被破坏是涂层吸收率衰减的主要原因。涂层在真空下热稳定激活能为189.5 k J·mol^-1,表明涂层具有较好的热稳定性。 

【文章来源】：稀有金属. 2016,40(09)北大核心

【文章页数】：6 页

【文章目录】：
1 实验
2 结果与讨论
    2.1 涂层显微组织分析
    2.2 涂层相结构分析
    2.3 涂层成分变化分析
    2.4 涂层光学性能
3 结论


【参考文献】：
期刊论文
[1]中频磁控溅射制备锰铜传感器用合金薄膜的工艺[J]. 张延松,牟宗信,吴敏,丁昂,牟晓东,钱坤明.  稀有金属. 2014(03)

硕士论文
[1]金属氮化物光谱涂层制备与性能研究[D]. 杜淼.北京有色金属研究总院 2011



本文编号：3037284