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TC4钛合金表面原位生长MoS 2 /TiO 2 微弧氧化膜层制备工艺研究

发布时间:2021-10-29 11:20
  钛合金作为一种新型轻合金结构材料拥有卓越的综合性能。它的低密度、轻重量、高断裂韧性、高耐热性和高强度比使其在很多领域(生物医学,航空等)都有重要应用。但钛合金的表面粘性大,与其他金属一起使用时,会在接触面发生黏着而产生磨损,甚至造成腐蚀;且钛合金表面硬度不高,在摩擦时,会产生较大的磨损。故为了使钛合金应用得到进一步的发展且提高其使用安全性,对其进行表面处理是必要的。釆用微弧氧化技术在钛合金表面可生成高硬度的氧化物陶瓷膜层,从而极大地改善了钛合金的摩擦学性能。但是该膜层摩擦系数过高,损耗严重。本文以TC4钛合金为研究对象,采用微弧氧化技术在钛合金表面制备MoS2/TiO2复合膜层。研究电解液添加剂对MoS2原位合成形态,膜层结构和磨损性能的影响。使用优化出的电参数和电解液配方,在微弧氧化过程中从溶液中合成MoS2并制备出含有MoS2的陶瓷层,对陶瓷层的显微硬度、成分组成、相组成、表面形貌、表面粗糙度以及摩擦磨损性能进行了测试分析,研究了不同复合膜结构的形成过程及其对磨损性能的影响... 

【文章来源】:长安大学陕西省 211工程院校 教育部直属院校

【文章页数】:71 页

【学位级别】:硕士

【部分图文】:

TC4钛合金表面原位生长MoS 2 /TiO 2 微弧氧化膜层制备工艺研究


微弧氧化作用原理图

表面微观形貌,微弧氧化,表面微观形貌


基础有待进一步完善,具体表现在:无法在等离子体反应过程中提供可以解释其过程的物理模型,还没有任何一个动力学理论可以完美解释该过程,因为整个过程包括电子迁移,阴阳离子在液相传质,固相传质等,这使得构建模型的难度倍增[39]。极大的耗能也是将微弧氧化技术应用到实际工程中时要面临的问题,这是因为微弧氧化过程中,电源所产生的能量会因为消耗在电解液中而造成浪费,同时维持电源的工作模式需要较大的能源支持。电解液的稳定性也是微弧氧化工业应用的难题,存放电解液时,长时间的保存会使得其发生缓慢的聚合反应或者是水解反应,长此以往,溶液中的电解质或会发生变化,严重时必须要重新配置溶液,造成资源浪费[40]。另外,工件的纯度也会大大影响微弧氧化结果。如果加工后的工件中杂质较多,则产生的膜层会在杂质作用下局部疏松,导致膜层致密性差,与基体的粘附力差,影响膜层膜的均匀性,大大降低了薄膜的耐磨性和耐腐蚀性。如果工件过大,形状复杂,会导致膜层生长不均匀,给精密仪器的装配带来一定的困难。从图 1.2 可以看出,微弧氧化膜表面存在许多缺陷,这是微弧氧化的缺点之一[41]。

硫化钼,结构示意图


图 1.3 硫化钼的结构示意图[63]Figure 1.3 Structural schematic diagram of molybdenum sulfide[内研究目的及意义金具有密度低同时重量轻、断裂韧性高、耐热性强和强应用于生物医用、航空航天等领域。但钛合金材料表面具时易发生黏着磨损,磨损量较大,对其在各个领域的应用弧氧化,能够显著降低其摩擦系数,提高耐磨性。(MAO)是一种通过外加超过临界值的高压电,使得金属表花放电从而形成陶瓷膜层的一种技术,他目前是金属表面弧氧化膜致密性好,孔隙率低,膜层均匀,耐腐性强,硬该工艺对生产加工的技术要求低,选用的电解液环保,且无特殊要求。一般认为,微弧氧化膜主要由致密层和疏松

【参考文献】:
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博士论文
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本文编号:3464559

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