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SKP和LEIS技术在电化学腐蚀研究中的应用进展

发布时间:2017-08-17 08:20

  本文关键词:SKP和LEIS技术在电化学腐蚀研究中的应用进展


  更多相关文章: SKP LEIS 缝隙腐蚀 点蚀 孔蚀 微生物腐蚀


【摘要】:介绍了扫描开尔文探针(SKP)和局部电化学阻抗谱(LEIS)两种先进的微区电化学测量技术的原理和优点以及目前主要的应用领域,综述了两种技术在缝隙腐蚀、点蚀和孔蚀、微生物菌腐蚀以及其他类型腐蚀研究中的应用进展。结果表明,两种测量技术对宏观的电化学测量技术有着很好的补充和完善作用。展望了两种技术的未来发展趋势。
【作者单位】: 重庆科技学院安全工程学院;重庆市安全生产科学研究院;重庆科技学院法政与经贸学院;
【关键词】SKP LEIS 缝隙腐蚀 点蚀 孔蚀 微生物腐蚀
【基金】:国家自然科学基金项目(51304259,51254001) 重庆科技学院研究生科技创新项目(YKJCX2014029)资助
【分类号】:TG174.3
【正文快照】: 0前言近年来宏观电化学测量技术在研究材料腐蚀方面获得了广泛的应用,电化学阻抗谱(ElectrochemicalImpedance Spectroscopy,EIS)以及电化学极化曲线技术在宏观方面对金属的腐蚀过程和机理进行了大量表征[1~4]。但随着腐蚀研究的不断发展和深入,传统的宏观电化学测量技术已经

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本文编号:687985

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