3.5%NaCl溶液中Ni-Co镀层失效过程的EIS研究

发布时间：2017-09-27 08:23

  本文关键词：3.5%NaCl溶液中Ni-Co镀层失效过程的EIS研究

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【摘要】：采用电化学阻抗谱(EIS)技术对电沉积Ni-Co镀层在3.5%NaCl溶液中的腐蚀失效过程进行了研究,发现可采用4种等效电路对镀层的失效过程进行拟合:浸泡初期,镀层耐蚀性能良好,可以简单的等效为镀层电阻与镀层电容的并联;浸泡一段时间后,镀层/金属界面上发生腐蚀反应,引入了双电层电容和界面电荷转移电阻;浸泡后期,界面上的腐蚀产物产生积累,引入反映腐蚀产物信息的Warburg电阻元件;当腐蚀产物的积累影响到腐蚀介质的扩散时,引入了扩散电阻和扩散电容。通过对失效过程中镀层电阻和电容随时间的变化曲线进行分析,发现Ni-Co镀层在3.5%NaCl溶液中的失效过程可分为3个阶段:腐蚀介质的渗透阶段,界面金属的腐蚀阶段和镀层的失效阶段。
【作者单位】： 南京电子器件研究所;
【关键词】： 电化学阻抗谱 Ni-Co镀层 失效过程
【分类号】：TG174.4
【正文快照】： 定稿日期:2016-02-031前言电沉积Ni-Co镀层因其优良的物理、化学和力学性能而有着广泛的用途[1-5]。近年来国内外学者对电沉积Ni-Co镀层做了许多研究[5-11],但大多数集中于Ni-Co或Co-Ni的电沉积机理方面,以及工艺参数和添加剂等镀液成分对Ni-Co镀层组织结构、成分和性能的影响

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本文编号：928629