钝感点火药用含能桥性能的研究
发布时间：2020-12-16 19:09
采用磁控溅射镀膜技术制备Al和CuO薄膜,通过扫描电子显微镜（SEM）测试薄膜厚度,计算得出Al薄膜沉积速率为2.105nm/min,CuO薄膜沉积速率为3.76nm/min;Al薄膜沉积密度为2.474g/cm3,CuO薄膜沉积密度为5.541g/cm3。利用扫描电子显微镜（SEM）对沉积的Al和CuO薄膜表面形貌进行分析,薄膜表面光滑平整,连续性好。利用原子能谱分析（EDS）对Al薄膜表面不同区域进行元素组成分析,大部分薄膜无杂质元素,有少量不平整区域发生氧化,出现O元素。利用差示扫描量热法（DSC）对Al/CuO复合含能薄膜化学反应性进行分析,Al过量摩尔百分比为-1.985%时薄膜反应放热量最大,另外纳米级试样的反应活性大于亚微米级试样。利用掩膜法制备Al/CuO含能桥,对桥膜进行发火实验。利用伏安特性曲线法表征含能桥发火特性,实验结果表明:发现桥膜的发火时间和电流达到峰值的时间随发火电压的增大而增加。利用含能桥反应区破损情况表征发火电压对含能桥发火能量的影响,实验结果表明:发火后桥反应区破损程度随发火电压增大而变大,发火释放能量随发火电压增大而增大。含能桥通过了1A1W5mi...
【文章来源】：沈阳理工大学辽宁省
【文章页数】：83 页
【学位级别】：硕士
【部分图文】：
磁控溅射镀膜仪Fig2.1Magnetronsputterinstrument
图 2.2 磁控溅射镀膜仪内部构造Fig2.2 The internal structure of magnetron sputter instrument昆山市超声仪器有限公司生产的 KQ-50B 型超声波洗。江苏省金坛市荣华仪器制造有限公司生产的 HH-2 描量热分析试样。义市予华仪器有限责任公司生产的 SHz-D（ ）描量热分析试样。验样品。
第 2 章 薄膜的制备2.4 薄膜沉积速率计算利用上述步骤操作，选用文献[12]中记载的最佳溅射工艺参数，如表 2.2 所示。表 2.2Al 和 CuO 溅射工艺Table2.2 Sputtering process of Al and CuO膜材料 工作气压/Pa Ar 气流量/SCCM 溅射功率/WAl 0.4 30~31 150CuO 0.4 30~31 206采用上述工艺参数制备的含能桥膜在扫描电子显微镜下观察薄膜截面厚度，Al 和 CuO 薄膜截面如图 2.3 所示，其中 a 为 Al 薄膜截面，b 为 CuO 薄膜截面。
【参考文献】：
期刊论文
[1]Al/CuO纳米线阵列材料的制备及表征[J]. 孙星,张方,王燕兰,张蕾,张植栋. 火工品. 2014(01)
[2]纳米铝热剂Al/CuO的制备及性能[J]. 宋薛,王军,杨光成,聂福德. 含能材料. 2013(01)
[3]介电式Al/CuO复合薄膜点火桥的电爆性能[J]. 朱朋,周翔,沈瑞琪,叶迎华,胡艳. 含能材料. 2011(04)
[4]铝-氧化铜复合薄膜化学反应性能[J]. 朱朋,沈瑞琪,叶迎华,胡艳,黄道伍. 含能材料. 2010(04)
[5]多层含能薄膜的制备及性能表征[J]. 王丽玲,蒋小华,何碧,付秋菠,王亮,朱和平. 火工品. 2009(01)
[6]硼在固体推进剂中的应用展望[J]. 范红杰,樊学忠,王国强,李上文. 飞航导弹. 2007(08)
[7]B/KNO3燃烧性能参数计算[J]. 祝明水,龙新平,蒋小华,何碧,蒋明. 兵工学报. 2005(03)
[8]CuO-Al-Cu粉末压坯中CuO和Al的反应机理[J]. 王武孝,袁森. 中国有色金属学报. 2000(05)
[9]冲击片点火管[J]. 杨振英,郭少华,褚恩义,叶欣,高馥萍. 火工品. 2000(03)
[10]半导体桥对粒状炸药的微对流传热数值模拟[J]. 周彬,徐振相,刘西广,秦志春,王成. 南京理工大学学报. 1996(06)
硕士论文
[1]Al/CuO复合半导体桥设计及发火性能研究[D]. 贾昕.南京理工大学 2014
[2]用于冲击片雷管的Al/CuO反应含能桥膜研究[D]. 周翔.南京理工大学 2012
[3]复合含能桥膜电爆炸的温度特性研究[D]. 王芳.南京理工大学 2010
[4]Al/CuO多层含能桥膜的制备与电爆特性研究[D]. 杨洋.南京理工大学 2010
[5]Al/CuO多层可反应性薄膜制备与反应性能研究[D]. 黄道伍.南京理工大学 2009
本文编号：2920638
【文章来源】：沈阳理工大学辽宁省
【文章页数】：83 页
【学位级别】：硕士
【部分图文】：
磁控溅射镀膜仪Fig2.1Magnetronsputterinstrument
图 2.2 磁控溅射镀膜仪内部构造Fig2.2 The internal structure of magnetron sputter instrument昆山市超声仪器有限公司生产的 KQ-50B 型超声波洗。江苏省金坛市荣华仪器制造有限公司生产的 HH-2 描量热分析试样。义市予华仪器有限责任公司生产的 SHz-D（ ）描量热分析试样。验样品。
第 2 章 薄膜的制备2.4 薄膜沉积速率计算利用上述步骤操作，选用文献[12]中记载的最佳溅射工艺参数，如表 2.2 所示。表 2.2Al 和 CuO 溅射工艺Table2.2 Sputtering process of Al and CuO膜材料 工作气压/Pa Ar 气流量/SCCM 溅射功率/WAl 0.4 30~31 150CuO 0.4 30~31 206采用上述工艺参数制备的含能桥膜在扫描电子显微镜下观察薄膜截面厚度，Al 和 CuO 薄膜截面如图 2.3 所示，其中 a 为 Al 薄膜截面，b 为 CuO 薄膜截面。
【参考文献】：
期刊论文
[1]Al/CuO纳米线阵列材料的制备及表征[J]. 孙星,张方,王燕兰,张蕾,张植栋. 火工品. 2014(01)
[2]纳米铝热剂Al/CuO的制备及性能[J]. 宋薛,王军,杨光成,聂福德. 含能材料. 2013(01)
[3]介电式Al/CuO复合薄膜点火桥的电爆性能[J]. 朱朋,周翔,沈瑞琪,叶迎华,胡艳. 含能材料. 2011(04)
[4]铝-氧化铜复合薄膜化学反应性能[J]. 朱朋,沈瑞琪,叶迎华,胡艳,黄道伍. 含能材料. 2010(04)
[5]多层含能薄膜的制备及性能表征[J]. 王丽玲,蒋小华,何碧,付秋菠,王亮,朱和平. 火工品. 2009(01)
[6]硼在固体推进剂中的应用展望[J]. 范红杰,樊学忠,王国强,李上文. 飞航导弹. 2007(08)
[7]B/KNO3燃烧性能参数计算[J]. 祝明水,龙新平,蒋小华,何碧,蒋明. 兵工学报. 2005(03)
[8]CuO-Al-Cu粉末压坯中CuO和Al的反应机理[J]. 王武孝,袁森. 中国有色金属学报. 2000(05)
[9]冲击片点火管[J]. 杨振英,郭少华,褚恩义,叶欣,高馥萍. 火工品. 2000(03)
[10]半导体桥对粒状炸药的微对流传热数值模拟[J]. 周彬,徐振相,刘西广,秦志春,王成. 南京理工大学学报. 1996(06)
硕士论文
[1]Al/CuO复合半导体桥设计及发火性能研究[D]. 贾昕.南京理工大学 2014
[2]用于冲击片雷管的Al/CuO反应含能桥膜研究[D]. 周翔.南京理工大学 2012
[3]复合含能桥膜电爆炸的温度特性研究[D]. 王芳.南京理工大学 2010
[4]Al/CuO多层含能桥膜的制备与电爆特性研究[D]. 杨洋.南京理工大学 2010
[5]Al/CuO多层可反应性薄膜制备与反应性能研究[D]. 黄道伍.南京理工大学 2009
本文编号：2920638
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