脉冲磁控溅射电源控制策略的研究

发布时间：2018-03-14 18:13

  本文选题：磁控溅射电源　切入点：滑模变结构控制　出处：《西安理工大学学报》2015年04期 　论文类型：期刊论文

【摘要】：基于脉冲磁控溅射电源等离子体负载的特殊性及镀膜过程对输出电压电流的控制需求,提出了一种PI控制电压环与滑模变结构控制电流环相结合的复合控制策略。文中建立了移相全桥变换器的平均状态空间模型,重点对滑模变结构电流控制方法进行了分析与设计,采用指数趋近律法削弱抖振,并对影响性能的参数进行了研究。仿真和实验结果表明:所提出的控制方法克服了传统方式下可能出现的起辉失败、负载扰动下电流波动大等缺点,提高了起辉成功率,并且对负载扰动具有很强的抑制能力。
[Abstract]:Based on the particularity of plasma load in pulsed magnetron sputtering power supply and the control requirement of output voltage and current in coating process, A hybrid control strategy based on Pi control voltage loop and sliding mode variable structure control current loop is proposed. The average state space model of phase-shifted full-bridge converter is established in this paper. This paper focuses on the analysis and design of sliding mode variable structure current control method, and adopts exponential approach law weakening chattering. The simulation and experimental results show that the proposed control method overcomes the shortcomings of the traditional method, such as the failure of starting up, the large fluctuation of current under load disturbance, and so on, and improves the success rate of starting. And the load disturbance has a strong suppression ability.
【作者单位】： 西安理工大学自动化与信息工程学院;
【基金】：陕西省工业攻关研究发展计划资助项目(2011 K09-05)
【分类号】：TG173

【参考文献】

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【共引文献】

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【二级参考文献】

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本文编号：1612364