环形抛光技术在列阵透镜制造中的应用

发布时间：2018-03-24 03:15

  本文选题：光学制造　切入点：环形抛光　出处：《中国激光》2015年07期

【摘要】：针对传统方法抛光高功率激光实验中使用的长焦距列阵透镜单元遇到的检测困难、一致性差等问题,提出了采用环形抛光的新方法。对环形抛光系统的理论分析表明,抛光盘面形可以稳定在球面状态。利用这种特性,环形抛光法可以抛光小曲率球面。阐述了抛光盘面形的调节方法。利用0.69 m环形抛光机对口径45 mm、曲率半径57207 mm的列阵透镜单元进行了抛光,结果表明面形精度和一致性均优于平面摆动式抛光法。最后对环形抛光机可抛光的球面曲率半径范围进行了探讨,发现盘面尺寸越小球面抛光能力越强,直径0.8 m的盘面可抛光的曲率半径可低至10 m。
[Abstract]:In order to solve the problems such as difficult detection and poor consistency of lens unit with long focal length array used in high power laser experiment, a new method of ring polishing is put forward. The theoretical analysis of ring polishing system shows that, The polishing surface can be stabilized in a spherical state. The ring polishing method can be used to polish the spherical surface with small curvature. The adjusting method of polishing disk surface is described. The array lens unit with a diameter of 45 mm and a radius of curvature of 57207 mm is polished by a 0.69m ring polishing machine. The results show that the precision and consistency of surface shape are better than that of planar swing polishing method. Finally, the range of spherical curvature radius that can be polished by ring polishing machine is discussed. It is found that the smaller the surface size is, the stronger the polishing ability of spherical surface is. The radius of curvature of the polishing surface of 0.8 m in diameter can be as low as 10 m.
【作者单位】： 中国科学院上海光学精密机械研究所高功率激光物理联合实验室;中国科学院大学;
【基金】：中以高功率激光技术国际合作研究(2010DFB70490)
【分类号】：TG580.692

【共引文献】

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