AZ91D镁合金微弧氧化膜微观形貌及形成过程研究
本文选题:镁合金 切入点:微弧氧化 出处:《稀有金属材料与工程》2015年10期
【摘要】:采用扫描电镜和金相显微镜系统研究了系列电压下AZ91D镁合金的表面氧化膜形成过程,讨论了微弧氧化膜层形成规律及成膜机制。结果表明:在试验电压范围内,微弧氧化起弧过程可以分为3个阶段:第1阶段为局部腐蚀与氧化相互竞争阶段,在表面缺陷处首先开始腐蚀,形成疏松的氧化膜,同时伴随水的电解过程;第2阶段为微区放电阶段,表面整体被氧化,形成少量孔洞的较致密氧化膜层,水的电解过程加剧;第3阶段为弧光放电阶段,氧化剧烈,膜层在电弧作用下击穿形成连通的孔洞,且孔洞直径和数量增加。
[Abstract]:The formation process of oxide film on the surface of AZ91D magnesium alloy under a series of voltages was studied by means of scanning electron microscope and metallographic microscope. The formation law and mechanism of micro-arc oxide film were discussed.The results show that the arc initiation process of micro-arc oxidation can be divided into three stages in the range of test voltage. The first stage is the phase of local corrosion and oxidation competition.At the same time, the electrolysis process accompanied by water, the second stage is the phase of micro-area discharge, the surface is oxidized as a whole, forming a small amount of pore dense oxide film, the process of water electrolysis is intensified, the third stage is the phase of arc discharge, the oxidation is intense,Under the action of electric arc, the film layer breaks down to form a connected hole, and the diameter and quantity of the pore increase.
【作者单位】: 长安大学;
【基金】:国家自然科学基金(51301022)
【分类号】:TG174.4
【参考文献】
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1 郝建民,陈宏,张荣军,蒋百灵;微弧氧化和阳极氧化处理镁合金的耐蚀性对比[J];材料保护;2003年01期
2 胡波年;谢治辉;余刚;张俊;叶立元;;镁合金直接化学镀镍存在的问题与发展趋势[J];材料保护;2010年04期
3 姜伟;王桂香;;镁合金微弧氧化工艺的研究进展[J];电镀与环保;2010年04期
4 郭洪飞,安茂忠,徐莘,霍慧彬;镁合金微弧氧化配方的优化及膜层耐蚀性能评价[J];电镀与涂饰;2004年06期
5 张勇;陈跃良;郁大照;张泰峰;朱武峰;;AZ91D镁合金微弧氧化膜厚对其耐蚀性的影响[J];腐蚀与防护;2010年02期
6 王丽;付文;陈砺;;镁合金腐蚀防护技术研究进展[J];电镀与精饰;2012年09期
7 杜云慧;张鹏;王玉洁;郝志强;;AZ91D表面的交流微弧氧化快速成膜[J];稀有金属材料与工程;2013年11期
8 薛文斌,邓志威,来永春,陈如意,张通和;有色金属表面微弧氧化技术评述[J];金属热处理;2000年01期
9 蒋百灵,张先锋;镁合金微弧氧化陶瓷层的生长过程及其耐蚀性[J];中国腐蚀与防护学报;2005年02期
【共引文献】
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1 刘元刚,张巍,李久青,申磊;AZ91D铸造镁合金交流脉冲双极微弧电沉积陶瓷膜[J];北京科技大学学报;2004年01期
2 陈宏,郝建民,王利捷;镁合金微弧氧化处理电压对陶瓷层的影响[J];表面技术;2004年03期
3 王天石;何R,
本文编号:1720702
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