氩气压强对不锈钢衬底NiCr薄膜性能的影响

发布时间：2018-04-09 06:00

  本文选题：射频磁控溅射　切入点：NiCr薄膜　出处：《材料导报》2015年S2期

【摘要】：采用射频磁控溅射技术在不锈钢基底上制备NiCr金属薄膜,研究不同的氩气压强对样品形貌和光学、附着力性能的影响。结果表明:所制备的NiCr薄膜在中远红外区都具有较高的反射率,平均值约为0.92,附着力级别均能达到5B;氩气压强对薄膜的性能具有较大的影响,具体表现为:随着压强的增大,薄膜的结晶度先上升后下降,均匀性先变好后变坏,在压强为4Pa时薄膜质量最好。
[Abstract]:NiCr thin films were fabricated on stainless steel substrates by radio frequency magnetron sputtering . The effects of different argon pressures on the morphology and optical properties of the films were investigated . The results show that the prepared NiCr films have higher reflectivity in the middle and far infrared regions , the average value is about 0.92 , the adhesion level can reach 5B ; the pressure of argon increases first and then decreases after the increase of the pressure . The uniformity of the films becomes worse . The film quality is best when the pressure is 4 Pa .

【作者单位】： 暨南大学信息科学技术学院;
【基金】：广东省教育部产学研结合项目(2012B091000111) 广东省科技计划项目(2014A010106014) 中央高校基本科研业务费专项基金(21612412) 暨南大学挑战杯项目(141213045)
【分类号】：TG174.4

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本文编号：1725135