化学气相沉积钨制品的研究现状与发展趋势
本文选题：钨 + 化学气相沉积 ； 参考：《中国钨业》2015年02期
【摘要】：化学气相沉积(Chemial vapor deposition,CVD)是制备高纯高致密钨零件及涂层的重要工艺。通过介绍采用CVD方法制备的纯钨材料的工艺与技术特点,并从CVD-W材料特性、产品种类,相关应用方向等方面阐述了CVD技术在钨材料制造中的发展情况,介绍了CVD-W在国防军工、核能、医疗等行业领域的应用,总结了CVD-W制备技术和材料的国内外现状,并指出了未来国内CVD技术在钨及难熔金属应用领域发展的总体方向。
[Abstract]:Chemical vapor deposition (CVD) is an important process for preparing high purity and high density tungsten parts and coatings. This paper introduces the process and technical characteristics of pure tungsten materials prepared by CVD method, and expounds the development of CVD technology in the manufacture of tungsten materials from the aspects of CVD-W material characteristics, product types and related application directions, and introduces the application of CVD-W in national defense military industry. This paper summarizes the present situation of CVD-W preparation technology and materials at home and abroad, and points out the general development direction of domestic CVD technology in tungsten and refractory metal application field in the future.
【作者单位】： 厦门虹鹭钨钼工业有限公司;
【基金】：第56批中国博士后科学基金面上项目二等资助(2014M561867)
【分类号】：TG146.411
【参考文献】
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【共引文献】
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【二级参考文献】
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