微流控芯片模具化学蚀刻制造工艺研究

发布时间：2018-05-19 10:14

  本文选题：化学蚀刻 + 微流控芯片　； 参考：《机械设计与制造》2015年12期

【摘要】：为制造微流控芯片模具实现微流控芯片的大批量生产,采用三酸型蚀刻液对图案掩膜的P20模具钢进行蚀刻加工。观测蚀刻的微流道形状和尺寸,分析蚀刻深度、流道宽度、蚀刻因子和面粗糙度等随加工时间的变化规律。结果表明加工时间越长,微流道侧壁垂直性越好,蚀刻因子越大,但面粗糙度越差。因为反应产物附着于工件表面,特别是侧壁上,使侧向蚀刻速度低于深度方向蚀刻速度,而蚀刻反应产生热量,使工件反应表面温度升高,蚀刻速度加快,影响表面质量。蚀刻反应中,合理控制掩膜尺寸、加工时间、搅拌速度和反应温度等,才能得到满足要求的微流控芯片模具。
[Abstract]:In order to manufacture the mould of microfluidic chip and realize the mass production of microfluidic chip, triacid etching solution was used to etch the P20 die steel with pattern mask. The shape and size of the etched microchannel were observed, and the changes of etching depth, channel width, etch factor and surface roughness with processing time were analyzed. The results show that the longer the processing time, the better the perpendicularity of the lateral wall of the microchannel, the larger the etching factor, but the worse the surface roughness. Because the reaction product adheres to the surface of the workpiece, especially on the side wall, the lateral etching speed is lower than that in the depth direction, and the etching reaction produces heat, which increases the surface temperature of the workpiece and accelerates the etching speed, which affects the surface quality. Only by controlling the mask size, processing time, stirring speed and reaction temperature, can the die of microfluidic chip be obtained.
【作者单位】： 广东工业大学机电工程学院;
【基金】：国家自然科学基金重点资助项目(12ZK0160);国家自然科学基金重点资助项目(U1134003)
【分类号】：TG176

【参考文献】

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【共引文献】

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【二级参考文献】

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本文编号：1909706