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镁合金表面微弧氧化放电现象及氧化膜特性分析

发布时间:2018-07-22 12:32
【摘要】:为研究AZ91D表面微弧氧化过程中的放电现象及膜层特性,采用高速摄像机记录微弧氧化试样表面在Na2Si O3-Na OH电解液体系下放电过程的瞬间图像。用扫描电子显微镜(SEM)对微弧氧化膜层截面形貌和表面形貌进行观察,利用X射线衍射仪(XRD)分析膜层的相组成。结果表明:AZ91D合金在微弧氧化稳定阶段,放电过程呈周期性变化规律。AZ91D合金微弧氧化膜层由致密层与疏松层构成,靠近基体一侧为致密层,膜层外侧为疏松层,在疏松层表面存在微孔和裂纹缺陷,膜层最大厚度约为169μm。陶瓷膜层主要由Mg O和Mg2Si O4相组成,且以Mg O相为主。
[Abstract]:In order to study the discharge phenomena and film characteristics of AZ91D surface during micro-arc oxidation, a high-speed video camera was used to record the transient images of the surface discharge process in Na _ 2SiO _ 3-NaOH electrolyte system. The cross-section and surface morphology of the micro-arc oxide film were observed by scanning electron microscope (SEM). The phase composition of the film was analyzed by X-ray diffraction (XRD). The results show that the discharge process of Wau AZ91D alloy changes periodically in the stable phase of micro-arc oxidation. The micro-arc oxide film of AZ91D alloy is composed of dense layer and loose layer, which is close to the substrate side and loose layer on the outer side of the film. There are micropores and crack defects on the surface of the porous layer, and the maximum thickness of the film is about 169 渭 m. The ceramic coating is mainly composed of MgO and Mg2SiO4 phases, and MgO phase is the main phase.
【作者单位】: 内蒙古工业大学;
【分类号】:TG174.4

【参考文献】

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【共引文献】

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本文编号:2137472


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