Si对高Nb-TiAl合金组织及室温拉伸性能的影响

发布时间：2018-12-19 18:59

【摘要】：研究硅化物(Nb5Si3相)析出对高Nb-TiAl合金组织及室温拉伸性能的影响.实验结果表明,硅化物脱溶析出温度在1000~1200℃之间,析出物位于片层团晶界处、b(B2)相偏析处以及片层之间.添加Si元素后,合金室温拉伸性能有所增加.因为Nb5Si3相的形成使得b(B2)相稳定元素Nb含量下降,导致脆性相b(B2)相体积减少.但是,含Si高Nb-TiAl合金经过热处理后,室温拉伸性能随热处理温度提高而逐步降低.因为沿片层析出的硅化物会导致裂纹沿片层产生与增殖,而且应力会导致硅化物进一步析出,加速裂纹扩展.而且,Si的加入会导致γ相区扩大,在1280~1300℃之间形成γ单相区.硅化物析出在片层边界处,会导致块状γ+b(B2)相组织,脆化晶界;而硅化物析出在片层内部会导致二次γ板条形成,割裂了初始片层组织.
[Abstract]:The effect of silicide (Nb5Si3 phase) precipitation on microstructure and room temperature tensile properties of high Nb-TiAl alloy was studied. The experimental results show that the desolvent precipitation temperature of the silicide is between 1000 鈩，

本文编号：2387317