铝栅化学机械抛光工艺

发布时间：2019-01-13 21:07

【摘要】：探讨了抛光液组成和机械抛光工艺参数(包括抛光压力、转速、抛光液流速和抛光时间)对铝栅化学机械抛光过程中铝的去除速率的影响,确定抛光液的组成为:氧化剂H_2O_2 1.0%(体积分数,下同),螯合剂FA/O II 0.4%,非离子表面活性剂FA/O I 2.0%,纳米硅溶胶磨料12%,pH 10。粗抛工艺参数为:抛光压力3.0 psi,转速50 r/min,抛光液流速250 m L/min,抛光时间240 s。精抛工艺参数为:抛光压力2.0 psi,转速45 r/min,抛光液流速150 m L/min,抛光时间240 s。粗抛时铝的去除速率为330 nm/min,精抛时铝的去除速率为210 nm/min。通过2种抛光工艺相结合,铝栅表面粗糙度可达13.26 nm。
[Abstract]:The effects of the composition of polishing fluid and the process parameters of mechanical polishing (including polishing pressure, rotation speed, polishing fluid flow rate and polishing time) on the removal rate of aluminum in the process of aluminum gate chemical-mechanical polishing were discussed. The composition of polishing solution was determined as follows: oxidizer H_2O_2 1.0% (volume fraction, the same below), chelating agent FA/O II 0.4, Nonionic surfactant FA/O I 2.0, nano-silica sol abrasive 12 and pH 10. The process parameters of rough polishing are as follows: polishing pressure 3.0 psi, rotation speed 50 rmin, polishing fluid flow rate 250ml / min, polishing time 240s. The polishing process parameters are as follows: polishing pressure 2.0 psi, rotational speed 45 rmin, polishing fluid flow rate 150ml / min, polishing time 240s. The removal rate of aluminum during rough casting is 330 nm/min,. The removal rate of aluminum is 210 nm/min.. Through the combination of two polishing processes, the surface roughness of aluminum gate can reach 13.26 nm..
【作者单位】： 河北工业大学电子信息工程学院;
【基金】：国家中长期科技发展规划02科技重大专项资助项目(2009ZX02308) 河北省教育厅基金(QN2014208)
【分类号】：TG580.692

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本文编号：2408400