铜表面硅烷-稀土掺杂膜的制备及缓蚀性能

发布时间：2019-10-23 10:39

【摘要】：运用分子自组装技术在铜片表面组装γ-巯丙基三甲氧基硅烷(MPTS)与稀土的掺杂膜。用原子力显微镜(AFM)观察了铜表面成膜过程,用金相显微镜观察铜片在0.5mol/L盐酸溶液中腐蚀72h后的表面形貌,运用电化学测量法对其防腐蚀性能进行评价。结果表明,硅烷-稀土掺杂膜对铜的缓蚀效率较单一的硅烷膜有明显提高,稀土浓度及组装时间对掺杂膜抗腐蚀性能有一定影响。经过极化曲线和交流阻抗的测定,确定硅烷-稀土掺杂膜的最佳组装条件为:LaCl3质量浓度为10g/L,组装30min,缓蚀率达93%。
【作者单位】： 渤海大学化学化工与食品安全学院功能化合物的合成及应用辽宁省重点实验室;
【基金】：国家自然科学基金(21176030) 辽宁省教育厅优秀人才支持计划(LR2011033)
【分类号】：TG174.4

【参考文献】

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【共引文献】

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本文编号：2552073