激光功率对钴基/GO复合熔覆层力学性能的影响

发布时间：2020-12-26 22:34

　　利用激光熔覆技术在TC4钛合金表面制备钴基/氧化石墨烯（GO）复合熔覆层,保持扫描速度V₁=6mm/s,送粉速率V₂=1.2r/min,光斑直径D=4mm不变,设置4组功率P₁=1000 W、P₂=1300 W、P₃=1600W、P₄=1900W,研究了激光功率对钴基/GO复合熔覆层微观组织及力学性能的影响。结果表明:熔覆层中主要包含TiC、Co₂Ti、γ-Co、α-Ti和Cr₃C₂相,GO在低功率下与TC4基体原位生成TiC,同时与半固态的Co₂Ti组织共同作用,GO在高功率下迅速分解,熔覆层成分主要为Co₂Ti组织。当激光功率为P₂=1300W时熔覆效果最佳,成形组织均匀,与TC4基体呈冶金结合,熔覆层硬度高达1100HV0.2,几乎是基体硬度390HV0.2的2.82倍。 

【文章来源】：激光与光电子学进展. 2020年09期 北大核心

【文章页数】：7 页

【文章目录】：
1 引言
2 激光熔覆实验
3 分析与讨论
    3.1 激光熔覆层微观组织特点
    3.2 熔覆层元素分析
    3.3 熔覆层显微硬度分析
4 结论


【参考文献】：
期刊论文
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硕士论文
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本文编号：2940559