镍-磷-氮化硅复合化学镀工艺优化

发布时间：2020-12-27 22:34

　　以Q235碳钢为基底进行Ni–P–Si₃N₄复合化学镀。以镀层的显微硬度为指标,通过正交试验得到的最优配方和工艺条件为:硫酸镍29 g/L,次磷酸钠30 g/L,氟化氢铵15 g/L,柠檬酸三钠10 g/L,硫脲0.003 g/L,氮化硅2 g/L,十二烷基硫酸钠0.04 g/L,pH 4.5,温度85℃,时间1.5 h。该条件下所得Ni–P–Si₃N₄复合镀层为非晶态结构,表面平整致密,厚度47.8μm,显微硬度313.4 HV,结合力良好。 

【文章来源】：电镀与涂饰. 2020年12期 北大核心

【文章页数】：3 页

【部分图文】：

Ni–P–Si3N4复合镀层的金相显微照片(400×)和SEM照片

Ni–P–Si3N4复合镀层的XRD谱图

【参考文献】：
期刊论文
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本文编号：2942618