负偏压与磁场对微弧氧化涂层表面结构的影响

发布时间：2021-06-11 03:03

　　为了揭示真空条件下氩离子、氩离子/负偏压、靶材/负偏压三种清洗工艺,以及负偏压与磁场协同作用对微弧氧化（MAO）涂层表面结构、厚度、硬度及粗糙度的影响规律,采用MAO和多弧离子镀技术在镁合金AZ31B表面制备镀层,利用扫描电子显微镜考察镀层的微观形貌;纳米压痕仪、测厚仪、粗糙度仪等手段考察镀层的厚度、硬度以及粗糙度随处理工艺变化的规律。当靶基距离为380 mm时,氩离子清洗的MAO涂层表面无明显变化;氩离子与负偏压协同作用时,MAO涂层表面的突起物随负偏压增加而减少,清洗效果变好;但负偏压超过500 V时,二者协同作用形成深孔而破坏了MAO涂层,失去MAO涂层对镁合金基体的保护作用。当Al靶与负偏压协同清洗时,负偏压超过200 V也致使MAO涂层呈现深孔特征。引入磁场沉积MAO/Al镀层时,由于磁场的磁过滤作用使得镀层表面沉积物分布均匀,无明显大颗粒熔滴。施加负偏压清洗容易破坏MAO涂层的表面结构,其与氩离子协同清洗时不应高于500 V,与铝靶协同清洗时应不高于200 V。与单一的负偏压或磁场沉积镀层相比,二者协同作用能获得致密均匀的厚MAO/Al镀层。 

【文章来源】：真空科学与技术学报. 2020,40(11)北大核心CSCD

【文章页数】：7 页

【文章目录】：
1 实验
2 结果与讨论
    2.1 表面微观形貌
        2.1.1 靶基距离与氩离子清洗MAO涂层表面形貌
        2.1.2 负偏压与氩离子清洗MAO涂层表面形貌
        2.1.3 负偏压与靶材清洗MAO涂层表面形貌
    2.2 沉积电参数与MAO/Al涂层表面形貌
    2.3 沉积电参数与MAO/Al涂层厚度
    2.4 沉积电参数与MAO/Al涂层硬度
    2.5 电参数与MAO/Al涂层粗糙度
3 结论


【参考文献】：
期刊论文
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硕士论文
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本文编号：3223674