中阶梯光栅厚铝膜硬度计算方法修正

发布时间：2021-06-22 09:36

　　为了排除Pile-up现象对真空镀制机刻光栅厚铝膜在纳米压痕测试硬度中的影响,获得中阶梯光栅铝膜准确硬度值,提出通过修正O&P法中接触投影面积的新硬度计算方法。首先,参照中阶梯光栅成槽深度,采用连续刚度测试模式,对中阶梯光栅厚铝膜进行压入深度为5μm的纳米压痕硬度测试。其次,对压痕位置进行SEM与AFM测试,结果表明厚铝膜在纳米压痕硬度测试中出现Pile-up现象。最后,对铝膜纳米压痕数据分析、提取,压痕隆起形貌复原等,证明接触面投影面积边缘为抛物线,进而对O&P法中接触投影面积的计算方法进行修正。结果表明:采用纳米压痕硬度测试方法,中阶梯光栅厚铝膜的硬度值随着压深增加而增加,采用修正接触投影面积的硬度修正计算方法获得的硬度值比传统O&P法所得硬度值减少40%左右。 

【文章来源】：制造技术与机床. 2020,(07)北大核心

【文章页数】：5 页

【文章目录】：
1 纳米压痕硬度计算方法-O&P法
    1.1 纳米压痕硬度
    1.2 O&P法
2 接触投影面积修正
    2.1 试验
    2.2 接触投影面积的修正
    2.3 修正硬度结果分析
3 结语


【参考文献】：
期刊论文
[1]残余应力与基底效应对光栅厚铝膜纳米压痕耦合影响研究[J]. 张宝庆,王占鹏,庞壮,韦赟杰,孙立华,高劲松.  制造技术与机床. 2018(06)
[2]中阶梯衍射光栅厚铝膜硬度研究[J]. 张宝庆,王占鹏,高劲松.  制造技术与机床. 2018(02)
[3]衍射光栅机械刻划成槽的预控试验[J]. 张宝庆,史国权,石广丰,蔡洪彬,张善文.  光学精密工程. 2013(07)



本文编号：3242605