TC4钛合金表面WSi 2 /W 5 Si 3 复合涂层制备及性能研究

发布时间：2021-08-29 22:51

　　利用磁控溅射（PVD）、化学气相沉积（CVD）以及热扩散渗硅方法在TC4钛合金表面制备WSi₂/W5Si₃复合涂层。采用X射线衍射仪、扫描电镜、能谱仪对复合涂层的结构、组织形貌以及微区化学成分进行分析;对复合涂层显微硬度、附着力以及耐磨性进行测试。结果表明:WSi₂/W5Si₃复合涂层的WSi₂层和W₅Si₃层厚度分别为20、56μm,显微硬度平均值分别为10.70和8.32 GPa; WSi₂/W₅Si₃复合涂层与基体结合力为171.6 N; WSi₂/W5Si₃复合涂层表面摩擦因数为0.75,磨损率为1.184×10^-6mm³·mm^-1。在TC4钛合金表面制备的WSi₂/W₅Si₃复合涂层结构... 

【文章来源】：钛工业进展. 2020,37(05)北大核心

【文章页数】：5 页

【部分图文】：

涂层与钛基体的划痕声发射图谱

经热扩散渗硅处理后复合涂层的组织形貌如图3a所示。复合涂层由致密表层、保留CVD沉积钨组织形态特征的次表层和与之临近的疏松互扩散区组成。复合涂层截面主要元素分布如图3b所示。从W、Si元素线分布可以看出，经过硅化处理后CVD沉积的纯钨涂层已经消失，W、Si元素已扩散进入钛基体。复合涂层的表层及次表层中W、Si元素含量固定，为扩散反应生成化合物层。能谱微区成分分析结果如图4所示。表层能谱分析结果中W与Si原子比接近1∶2，应为WSi2层，其厚度为20μm;次表层能谱分析结果中W与Si原子比接近5∶3，应为W5Si3层，其厚度为56μm。图3 WSi2/W5Si3复合涂层截面形貌及线扫描能谱图

WSi2/W5Si3复合涂层截面形貌及线扫描能谱图

【参考文献】：
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硕士论文
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本文编号：3371524