不同电压下制备等厚微弧氧化膜层的能耗及膜层的耐蚀性

发布时间：2021-08-30 09:21

　　首先对硅酸盐体系中的AZ91D镁合金进行微弧氧化处理,然后通过调节电压制备厚度均为25μm和厚度均为40μm的两组微弧氧化膜层,并针对这两组等厚度膜层的制备时间、能耗、质量厚度比及耐蚀性随电压的变化规律等进行对比研究.结果表明:随着电压的增大,两组等厚度膜层的制备时间均缩短,能耗均降低.相对于厚度均为25μm的膜层,厚度均为40μm的膜层的制备时间更长、能耗更大,同时因40μm膜层较低的致密性,其在氯化钠介质中的耐蚀性较差,但其较厚的厚度使得膜层在硝酸介质中显现出更为优异的耐蚀性能. 

【文章来源】：兰州理工大学学报. 2020,46(04)北大核心

【文章页数】：4 页

【部分图文】：

制备等厚微弧氧化膜层所需时间与处理电压关系

能耗在很大程度上决定了生产成本，通过式（1）计算得到的制备等厚膜层时所消耗的能量如图2所示．从图2可以看出，随处理电压的增加，两组同厚度膜层的能耗具有相同的变化规律，均呈下降趋势，且25μm的膜层，在440V前降幅较大，而40μm的膜层，在470V前降幅较大．式中：E为制备膜层时的能耗；Ui、Ii为i点处瞬时电压和电流；n为记录电压和电流的总次数，由反应全程每2min计数一次计算而得；ti为i-1至i点的时间长度．

图3所示为厚度均为25μm和厚度均为40μm两组膜层的质量厚度比随处理电压的变化曲线．由图3可知，两组膜层质量厚度比随处理电压的变化规律略有差异，25μm等厚膜层随电压增加，先增加后略微减小再增加再减小，而40μm的膜层先减小后增加再减小，这归因于膜层质量厚度比除受处理电压影响外，可能还受处理时间或者其间交互作用的影响．相同电压下，厚度均为25μm膜层的质量厚度比明显高于40μm膜层的．由式（2）可知，对于同厚度的膜层，其质量与厚度的比间接地反映了膜层的致密程度[19]，因此25μm膜层具有更高的致密性好．

【参考文献】：
期刊论文
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本文编号：3372514